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半导体靶材是什么

半导体靶材是什么?半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一,也是各种类型靶材中属半导体靶材技术要求最高的,其对纯度要求通常高达5N5以上,且对尺寸精密度也存在极高要求。长沙鑫康生产各种纯度靶材,详情请咨询

超高纯钴靶材的制备方法和应用

文章讲述超高纯钴靶材的制备方法、工艺流程、应用和用途。长沙鑫康新材料由中南大学材料科学工程学院材料科学专业的几位博士、硕士等科研人员一手创建,是集金属及氧化物镀膜材料研发、生产、销售于一体的具有自主知识产权的高新技术企业。

高纯溅射靶材四大应用领域分析详解

高纯溅射靶材应用领域主要包括半导体、面板、光伏及光学器件。集成电路、平板显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、光学器件、高档装饰用品等生产过程中均需要进行溅射镀膜工艺,溅射靶材应用领域非常广阔。

高纯溅射靶材是影响靶材质量的关键之五大核心生产技术

高纯溅射靶材是什么?它是影响靶材质量的关键,具体表在五大核心技术,超高纯金属控制和提纯技术、晶粒晶向控制技术、异种金属大面积焊接技术、金属的精密加工及特殊处理技术、靶材的清洗包装技术

靶材生产制备的常见方法及工艺流程

目前制备靶材的方法主要有铸造法和粉末冶金法。对于难熔金属,也可采用熔炼法。只要您提供详细的靶材信息,如纯度,尺寸,公差要求,及其他技术要求,我们将尽快为您提供报价,并提供最快的交期。

溅射靶材用于半导体的晶圆制造及芯片封装等环节

靶材作用是什么?溅射靶材是制备半导体的核心材料之一。半导体制备过程中,在晶圆制造及芯片封装两大环节均需用到溅射靶材。

靶材是电子薄膜材料主要原材料

靶材是什么?溅射靶材是物理气相沉积技术(PVD)制备电子薄膜材料的主要原材料,其主要由靶坯、背板等部分极成。

溅射靶材介绍:溅射中国“芯”

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材

行业深度:成长深一度,细看国产靶材市场

溅射技术作为薄膜材料制备的主流工艺,其应用领域广泛,如集成电路、平板显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、光学镀膜、电子器件、高档装饰用品等行业。高纯溅射靶材则主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域,如集成电路、平板显示器、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等行业

中国溅射靶材行业发展概况

溅射靶材简介 超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。 溅射靶材工作原理示意图如下: 一般来说,溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的核心部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜

半导体靶材行业市场、产品种类及技术壁垒分析

金属靶材的制备中包括材料纯化和靶材制备两个过程。纯化过程中确保降低靶材中杂志含量,制备过程确保靶材表面平整程度。材料纯化过程中主要方法包括化学提纯化和物理提纯法

专家评中国稀土案WTO败诉:轻稀土或首先放开出

据商务部新闻办26日晚间信息,世界贸易组织于日内瓦时间26日下午公布了美国、欧盟、日本诉中国稀土、钨、钼相关产品出口管理措施案专家组报告,中国的稀土贸易诉讼案初步裁决中国败诉