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行业资讯

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2024-07

关于镍钴合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

镍钴合金靶材是一种由高纯镍和钴经过高真空熔炼制成的靶材,具有良好的硬度、强度、导电性和导热性。同时,它还表现出较好的耐腐蚀性和抗氧化性。这种材料在电真空器件中有着广泛应用。

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2024-07

关于镍钨合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

镍钨合金溅射靶材由镍(Ni)和钨(W)两种金属组成,通常以粉末冶金法制备。这种合金结合了镍的低电阻系数和良好的加工性能,以及钨的高熔点和优异的耐腐蚀性能。广泛应用于集成电路和金属化薄膜的制备中。

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2024-07

关于镍钛合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

镍钛合金靶材是由高纯镍和钛熔炼铸造得到的靶材,纯度达到99.9%以上,广泛应用于医疗领域,电子领域,航空航天领域,工业领域等。

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2024-06

关于镍铁合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

镍铁合金靶材的含镍量范围很广,从10%至90%。物理性质方面,它具备一定的硬度、强度和良好的导电性、导热性。在化学性质上,它表现出较好的耐腐蚀性和抗氧化性。它被广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、工件表面涂层等领域。

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2024-06

关于镍钒合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

镍钒合金靶材是一种特殊的材料,它在制备过程中会在镍熔体中加入钒,以此制备出的合金更有利于磁控溅射。它被广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、熔炼、电子信息、半导体集成电路、平板显示、记录介质、工件表面涂层等领域。

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2024-06

关于镍铝合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

镍铝合金靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)工艺的材料,主要用于制造各种薄膜和涂层。这种靶材主要由镍和铝两种金属元素组成,纯度可以达到3N5(99.95%),规格通常是平面靶材,具有优异的耐腐蚀性、耐磨性和高温性能。

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2024-05

钽坩埚 石墨坩埚 氮化硼坩埚性能比较

坩埚的选择取决于具体的生产要求和工艺。不同的材料有不同的沸点,因此需要定制坩埚才能充分沉积。还需要考虑密度和热导率等因素。

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2024-05

关于镍铬合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

镍铬合金靶材是一种在物理气相沉积(PVD)等过程中,作为溅射或蒸发源的材料。它具有高纯度、良好的耐腐蚀性和高温强度,适用于半导体制造、磁性材料制备、薄膜涂层和化学催化等领域

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2024-05

关于氧化铜靶材性能,制备方法及其应用介绍

氧化铜靶材是一种用于溅射镀膜工艺的靶材,由氧化铜粉末通过压制、烧结等工艺制备靶材。主要用于各种工业和科研应用。

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2024-05

关于铜锰合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜锰合金靶材是一种用于磁控溅射镀膜的金属靶材,通常由高纯金属锰和铜制成。它还是一种用于半导体制造过程中的高纯溅射靶材,它在集成电路的金属互连层、金属接触层、扩散阻挡层等的制备中发挥着重要作用。

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2024-04

关于铜镓合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜镓合金靶材它由铜和镓两种金属组成,通过熔炼-轧制的方法制成,晶粒尺寸较小,致密度较高。铜镓合金靶材是一种用于形成CIGS类太阳能电池光吸收层的关键材料。

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2024-04

关于铜锡合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜锡合金靶材是一种由铜(Cu)和锡(Sn)两种金属元素组成的特殊合金材料。这种靶材在溅射沉积过程中具有优良的导电性能和热稳定性,能够提供高质量的沉积层。铜锡合金靶材可以用于各种镀膜技术。

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2024-04

关于铜镍合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜镍合金靶材是一种银白色的金属靶材,具有金属光泽。在纯铜材料中加入镍能够显著提高强度、耐蚀性、硬度、电阻和热电性,并降低电阻率温度系数。铜镍合金靶材在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

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2024-04

关于氧化铝靶材性能,制备方法及其应用介绍

氧化铝靶材也称为三氧化二铝靶材,采用粉末冶金方式制备,广泛用于半导体制造、光学涂层、表面工程、微电子器件、光学元件等领域。

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2024-03

关于铝铌合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铝铌合金靶材由高纯铝和铌原料制成,具有高熔点、低密度的特点。该材料广泛应用于微电子、半导体芯片、光伏等高端产业。