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长沙鑫康新材料有限公司 新闻资讯 行业资讯
行业资讯

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2023-09

铂靶材其制造工艺及用途

铂靶材是一种高纯度、高密度、高熔点和化学稳定的金属靶材,常用于真空镀膜工业中。本文讲述铂靶材的制备方法,整体上可以使得制备得到的铂靶材厚度均匀,开裂率较低,成品率高。

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2023-09

银靶材是什么 应用在哪些领域里

银靶材白色有光泽的面心立方结构金属,是一种重要的材料,用于核能研究、医学影像、电子行业等领域。

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2023-09

一种高纯金靶材制备方法及其用途

金靶材通常由高纯度的黄金制成,黄金是一种致密、柔软的过渡金属,具有很强的延展性和韧性。用于物理蒸发、磁控溅射、离子镀等技术制备薄膜。

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2023-09

铋靶材制备方法和用途详细介绍

铋溅射靶材是由高纯铋金属组成的银色靶材,我们制备的金属铋平面靶材边角无崩角,表面光洁,粗糙度非常低。主要用于放射性同位素生产、核反应实验、辐射治疗等领域

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2023-08

铼靶材特征应用及制备工艺详细介绍

铼靶材是由高纯铼金属组成的银灰色靶材。它的熔点高达3180°C,使其在高温环境下具有出色的稳定性。在半导体工业中,铼靶材用于制备薄膜材料,如硅、氮化硅等。

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2023-08

n型半导体与p型半导体的区别在哪里?

半导体是在导体(如金属)和绝缘体(如非金属)之间具有导电性的材料。它们对于电子设备的功能至关重要。半导体的行为基于电子在其原子结构内的运动。

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2023-08

锰靶材生产工艺及用途

高纯锰靶材是一种用于溅射镀膜的材料,具有优良的物理、化学性能和高纯度。高纯锰靶材的制备过程需要严格的工艺控制和高端设备,包括真空熔炼、粉末冶金、热压成型等步骤。

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2023-07

溅射用钙靶材制备工艺及应用

钙靶材通常选择适合制备钙靶材的原料钙金属烧结成型,钙靶材主要应用在离子注入和植入、薄膜制备、材料研究、量子技术、微电子制造等领域

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2023-07

硅靶材是什么材料以及生产工艺和主要用途

硅溅射靶材为深灰色。硅在室温下是固体,熔点为1414°C(2577°F),沸点为3265°C(5909°F)。我们使用直拉晶体生长方法生产硅平面溅射靶材。主要应用于LCD透明导电玻璃、建筑LOW-E玻璃和微电子行业。

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2023-07

关于高纯锗靶材制备方法及应用

锗靶材通常是通过将锗材料制成圆盘状,并将其固定在真空镀膜设备中的靶座上进行使用。在薄膜沉积过程中,通过在锗靶材上施加高能粒子束,将锗原子剥离并沉积在基底上,形成所需的薄膜。

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2023-07

溅射镀膜用高纯锆靶材制备方法及主要用途

锆靶材是高纯锆材料的加工产品,在制备过程中需要保证气氛的纯净度,以避免锆材料受到污染。在光电子领域,锆靶材可用于制备电子束蒸发器中的阴极和光学涂层。

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2023-06

镀膜用锌靶材的制备工艺及用途

锌靶材是一种用于薄膜沉积的材料,通常用于物理气相沉积(PVD)等技术。锌靶材可以采用熔融法制备,熔融法是将锌金属加热熔化后浇铸成型再制备靶材。锌靶材具有良好的化学防腐性能和电学性能,可以用于光电器件、太阳能电池和显示器件等行业的薄膜制备。

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2023-06

钨靶材 制备工艺流程和用途

钨靶材通常由高纯度的钨粉烧结成型,主要用于平面显示器、太阳能电池、集成电路、汽车玻璃、微电子、存储器、X-射线管、医疗设备、熔炼设备等产品中。

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2023-05

铪靶材制作过程及应用

铪靶材由高纯度的铪金属制成,由于铪靶材的高纯度和良好的性能,它在半导体和显示器制造中扮演着重要的角色。在工业发展中,铪靶材的需求将会继续增加。

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2023-05

锡靶材 制备方法及应用介绍

锡靶材的主要成分为高纯度的锡金属,其纯度高达到99.99%以上。采用真空熔炼,将纯度为99.99%的原材料精锡进行熔炼和铸造,得到高纯锡铸锭,通过机加工得到高纯度高均匀细晶粒锡靶材。