铁靶材是由高纯铁金属组成的金属固体靶材。它是有光泽的银白色金属,在真空下蒸发，在半导体、磁性存储介质和燃料电池的生产中作为镀膜涂层。

铜靶材是真空镀膜行业中优良的溅射材料。由于高纯铜材料具有许多优良性能，铜靶已广泛应用于电子、通信、超导、航空航天等前沿领域。

由于金属材料的高导电性，能很好的传输电流，众多金属元素如铜、铝、金、银、钛、钽、钨等以及它们的合金，已在半导体器件中得到了大量应用，详细的半导体器件金属薄膜保护涂层方案点击查看。

钴靶材具有与金属钴相同的性质，是一种表面银白色铁磁性金属。高纯度的钴用来作为先进电子元件的靶材，还广泛用于磁性材料、超级合金的制造。

镍靶材有多种形式、纯度、尺寸和价格可供选择。镍溅射靶材由高纯镍金属组成。镍靶材用于薄膜沉积、LED和光伏器件、与其他光学信息存储空间行业等行业，有着良好的应用前景。

裂纹形成通常发生在陶瓷溅射靶材和脆性材料溅射靶材中。一般来说，轻微的裂纹不会对镀膜生产产生很大的影响。

用于装饰性的薄膜主要是指手机、手表、眼镜、卫浴洁具、五金配件等产品的表面膜层，它美化了色彩，具有耐磨、耐腐蚀的功能。用于装饰镀膜的靶材主要有铬溅射靶材、钛溅射靶材、锆溅射靶材、镍溅射靶材、钨溅射靶材、钛铝溅射靶材等。

为了保证大面积薄膜的均匀性，提高生产效率和降低成本，溅射技术越来越多地用于制备平板显示薄膜。平板显示器镀膜用溅射靶材主要有铬Cr溅射靶材、铜Cu溅射靶材和ITO溅射靶材等。

靶材的相对密度应在98%以上，粉末冶金靶材应在97%以满足生产使用。相对密度高、孔隙少的靶材具有良好的导热性。溅射靶材表面的热量很容易快速传递到靶材或衬板内表面的冷却水中，保证了成膜过程的稳定性。

靶材形状、纯度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和结合质量对大面积镀膜的质量和溅射率有很大影响。

靶材的形状、纯度、密度、孔隙率、晶粒尺寸和质量极大地影响膜层质量和溅射速率。优质的靶材可以保证良好的薄膜质量，延长Low-E产品的生命周期。今天，我们分享靶材纯度和材料均匀性对大面积镀膜的影响。

太阳能主要用于将太阳能转化为热能和电能。用于太阳能电池镀膜的溅射靶材主要有AZO溅射靶材、ZnO溅射靶材、ZnAl溅射靶材、Mo溅射靶材、CdS溅射靶材、CuInGaSe溅射靶材。

溅射靶材分为面板和背板。根据材料的不同，溅射靶材背板也有所不同。目前常见的溅射靶材背板材料主要有无氧铜、钼、不锈钢管、铟等背板材料。

用于屏蔽溅射镀膜层的溅射靶材有哪些？本文讲到的有以下几种，它们包括铜、铬、银、金、不锈钢、铝、二氧化硅靶材等。

热反射镀膜玻璃，是指具有反射太阳能功能的镀膜玻璃。一般通过在玻璃表面镀上金属或金属氧化膜，可以反射大量的太阳辐射和光线。哪些溅射靶材可用于热反射镀膜详情点击了解。