铁钴钽合金靶材具有高效、耐用、可靠的特点，适用于在高技术领域中使用，如磁记录、磁头材料等。其制备方法通常包括粉末冶金法、真空熔炼法等。

硫化铁（FeS2）作为一种重要的半导体材料，具有优异的光电性能，因而在电池领域备受关注。制备方法主要有熔炼法，粉末冶金法等。

铁镍合金靶材是一种由铁和镍两种金属组成的靶材材料。通过热锻、冷轧、热处理等工艺制备，这种合金靶材在电子、半导体、磁性材料等领域有着广泛的应用。

铁铪合金靶材是一种由铁和铪组成的合金材料。这种合金材料结合了铁和铪的优点，具有高强度、高温稳定性、耐腐蚀性能等优良特性。铁铪合金靶材的制备过程主要包括真空熔炼和粉末冶金法两种。

铁铬合金靶材主要由铁（Fe）和铬（Cr）两种元素组成，具有特定的铁和铬的比例。通常呈灰黑色，其纯度可以达到3N（即99.9%）。制备通常采用真空感应熔炼法和粉末冶金法。

铁硅合金靶材因其独特的物理和化学性质，在多个领域中有着广泛的应用，尤其是在半导体、太阳能电池、光学薄膜和数据存储设备等方面。铁硅合金靶材的制备方法主要有铸造法和粉末冶金法。

铁锰合金靶材有较高的硬度和耐腐蚀性，制备工艺包括选择原料、熔炼混合、热处理、冷变形与退火以及机加工等步骤。主要用于半导体、光学、刀具和模具涂层等。

铁钴合金靶材是由高纯的钴和铁原料经过高真空熔炼得到的，钴含量可以为 5%、10%、15%、20%等，钴与铁是无限固溶的，经过精细的热加工后，晶粒细小均匀，纯度高，密度大。产品广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜。

氧化镍靶材（NiO）是一种重要的材料，具有高纯度和特定的晶体结构，以及优异的电学和磁学性质。广泛应用于薄膜沉积技术中，特别是在半导体器件、光电设备及高性能薄膜的制造过程中。

碳化镍靶材是一种用于镀膜工艺的溅射靶材。它主要由镍和碳组成，具备较高的硬度、熔点和化学稳定性等特点。广泛用在一些电子器件、光学涂层、耐磨涂层等领域。

镍铬铝钇硅合金靶材是由镍（Ni）、铬（Cr）、铝（Al）、钇（Y）和硅（Si）按一定比例合成的先进材料。它还具备优异的耐磨和耐蚀性能，使其在恶劣工作条件下表现出色。它是一种具有特殊性能和广泛应用的材料。

镍铬硅溅射靶材是一种包含Ni, Cr和Al的合金溅射材料。它具有较高的电阻率，良好的表面特性，耐高温，并且在高温下有较高的强度。它在冶金、家用电器、机械制造业等领域中作为发热元件和电阻材料得到广泛应用。

镍钴合金靶材是一种由高纯镍和钴经过高真空熔炼制成的靶材，具有良好的硬度、强度、导电性和导热性。同时，它还表现出较好的耐腐蚀性和抗氧化性。这种材料在电真空器件中有着广泛应用。

镍钨合金溅射靶材由镍（Ni）和钨（W）两种金属组成，通常以粉末冶金法制备。这种合金结合了镍的低电阻系数和良好的加工性能，以及钨的高熔点和优异的耐腐蚀性能。广泛应用于集成电路和金属化薄膜的制备中。

镍钛合金靶材是由高纯镍和钛熔炼铸造得到的靶材，纯度达到99.9%以上，广泛应用于医疗领域，电子领域，航空航天领域，工业领域等。