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长沙鑫康新材料有限公司 蒸发材料
蒸发材料

蒸发材料

蒸发颗粒和片：金属膜具有反射率高、截止带宽、中性好以及偏振效应小等优点，因此他们对于设计一些特殊应用的膜系具有重要的作用。我们为溅射和蒸发镀膜提供各种金属薄膜材料，我们的材料可以满足您高标准高质量的薄膜需求，无论您是用于科研开发还是大规模生产。以下表格为我们的常规产品，如有任何需求，欢迎与我们联系。

蒸发锥台和坩埚：我们生产许多薄膜沉积设备配件，包括锥台和坩埚及各种规格尺寸的蒸发舟及电子枪灯丝，这些高质量的材料用于蒸发镀膜行业。得益于合理的库存，我们可以保证及时的交货期限。此外，我们所有的产品都是在装箱前进行清洗和真空包装，这样您收到货后可以立即使用。



 
蒸发材料 列表
镍（Ni）颗粒

镍（Ni）颗粒

化学式：
Ni
规格：
Φ3* 3/Φ6* 6 mm
熔点：
1455 ℃
密度：
8.902 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
4N、4N5、5N
钴（Co）颗粒

钴（Co）颗粒

化学式：
Co
规格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔点：
1495 ℃
密度：
8.89 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
3N5
铜（Cu）颗粒

铜（Cu）颗粒

化学式：
Cu
规格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔点：
1084 ℃
密度：
8.9 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
4N、5N
铁（Fe）颗粒

铁（Fe）颗粒

化学式：
Fe
规格：
3-20 mm
熔点：
1535 ℃
密度：
7.874 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
3N、4N
铝（Al）颗粒

铝（Al）颗粒

化学式：
Al
规格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔点：
660 ℃
密度：
2.7 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
4N、5N
钛（Ti）颗粒

钛（Ti）颗粒

化学式：
Ti
规格：
Φ3*3/Φ6*6mm mm
熔点：
1668 ℃
密度：
4.54 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
4N、4N5、5N
锡（Sn）颗粒

锡（Sn）颗粒

化学式：
Sn
规格：
1-10 mm
熔点：
℃
密度：
7.28 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
4N
铬（Cr）颗粒

铬（Cr）颗粒

化学式：
Cr
规格：
mm
熔点：
1907 ℃
密度：
7.23 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
2N5、3N5
钒（V）颗粒

钒（V）颗粒

化学式：
V
规格：
1-10 mm
熔点：
1890 ℃
密度：
6.11 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
3N5
锗（Ge）颗粒

锗（Ge）颗粒

化学式：
Ge
规格：
1-10 mm
熔点：
938 ℃
密度：
5.5 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
5N
铪（Hf）颗粒

铪（Hf）颗粒

化学式：
Hf
规格：
Φ2*5 mm
熔点：
2227 ℃
密度：
13.31 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
3N
锆（Zr）颗粒

锆（Zr）颗粒

化学式：
Zr
规格：
2*5 mm
熔点：
1852 ℃
密度：
6.508 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
3N5
钽（Ta）颗粒

钽（Ta）颗粒

化学式：
Ta
规格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔点：
3017 ℃
密度：
10.9 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
3N5
铌（Nb）颗粒

铌（Nb）颗粒

化学式：
Nb
规格：
Φ3*3/Φ6*6 mm
熔点：
2477 ℃
密度：
10.87 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
3N5
金（Au）颗粒

金（Au）颗粒

化学式：
Au
规格：
Φ3*6 mm
熔点：
1064 ℃
密度：
19.3 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
4N、5N
银（Ag）颗粒

银（Ag）颗粒

化学式：
Ag
规格：
Φ3*3 mm
熔点：
962 ℃
密度：
10.49g/cm³ g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
4N
硅（Si）颗粒

硅（Si）颗粒

化学式：
Si
规格：
1-3 mm
熔点：
1410 ℃
密度：
g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
硼（B）颗粒

硼（B）颗粒

化学式：
B
规格：
3-8 mm
熔点：
2300 ℃
密度：
2.34 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
2N5
石墨（C）颗粒

石墨（C）颗粒

化学式：
C
规格：
1-3 mm
熔点：
3850 ℃
密度：
3.51 g/cm³
蒸发源：
B
纯度：
镁（Mg）颗粒

镁（Mg）颗粒

化学式：
Mg
规格：
mm
熔点：
℃
密度：
g/cm³
蒸发源：
纯度：
4N
二氧化硅（SiO₂）颗粒

二氧化硅（SiO₂）颗粒

化学式：
SiO₂
规格：
1-2/1-3/φ2*2/φ3*3 mm
熔点：
1700 ℃
蒸发源：
E
折射率：
1.46
透明波段：
200-9000nm
用途：
隔离膜
五氧化二铌（Nb₂O₅）颗粒

五氧化二铌（Nb₂O₅）颗粒

化学式：
Nb₂O₅
规格：
1-2/1-3 mm
熔点：
1530 ℃
蒸发源：
E
折射率：
2.3
透明波段：
350-9000nm
用途：
增透膜，干涉滤光片等
五氧化二钽（Ta₂O₅）颗粒

五氧化二钽（Ta₂O₅）颗粒

化学式：
Ta₂O₅
规格：
1-3/Φ90*12t mm
熔点：
1800 ℃
蒸发源：
RE,RS
折射率：
2.1
透明波段：
350-9000nm
用途：
增透膜，干涉滤光片等
二氧化锆（ZrO₂）颗粒

二氧化锆（ZrO₂）颗粒

化学式：
ZrO₂
规格：
φ18*10t/φ18*7t mm
熔点：
2715 ℃
蒸发源：
E
折射率：
2.05
透明波段：
250-9000nm
用途：
增透膜,多层膜,装饰膜等
二氧化钛（TiO₂）颗粒

二氧化钛（TiO₂）颗粒

化学式：
TiO₂
规格：
1-2/1-3 mm
熔点：
1850±20 ℃
蒸发源：
RE,RS
折射率：
2.3
透明波段：
360-9000nm
用途：
增透膜,激光多层膜,
分光器,热反射镜等
二氧化铪（HfO₂）颗粒

二氧化铪（HfO₂）颗粒

化学式：
HfO₂
规格：
1-3/1-5 mm
熔点：
2812 ℃
蒸发源：
E,RS
折射率：
2.15
透明波段：
200-9000nm
用途：
复合膜等
五氧化三钛（Ti₃O₅）颗粒

五氧化三钛（Ti₃O₅）颗粒

化学式：
Ti₃O₅
规格：
1-3 mm
熔点：
1850 ℃
蒸发源：
RE,RS
折射率：
.3
透明波段：
400-12000nm
用途：
增透膜，滤光片等
三氧化二铝（Al2O3） 颗粒

三氧化二铝（Al2O3） 颗粒

化学式：
Al2O3
规格：
1-3 mm
熔点：
2020 ℃
蒸发源：
E,B（W)
折射率：
1.54
透明波段：
170-9000nm
用途：
三氧化钨（WO₃）颗粒

三氧化钨（WO₃）颗粒

化学式：
WO₃
规格：
1-3 mm
熔点：
1473 ℃
蒸发源：
E,B（W)
折射率：
1.7
透明波段：
360-10000nm
用途：
保护膜，功能膜等
二氧化铈（CeO2）颗粒

二氧化铈（CeO2）颗粒

化学式：
CeO2
规格：
1-5 mm
熔点：
2727 ℃
蒸发源：
E,B（W)
折射率：
2.2
透明波段：
400-12000nm
用途：
增透膜等
三氧化二铬（Cr2O3）颗粒

三氧化二铬（Cr2O3）颗粒

化学式：
Cr2O3
规格：
1-3 mm
熔点：
2275 ℃
蒸发源：
E
折射率：
2.1
透明波段：
600-8000nm
用途：
粘接促进材料，塑料基片镀膜
彩色/防晒镀膜
氧化镁（MgO）颗粒

氧化镁（MgO）颗粒

化学式：
MgO
规格：
1-3/3-5 mm
熔点：
2852 ℃
蒸发源：
E,B（W,Ta)
折射率：
1.7
透明波段：
200-8000nm
用途：
激光镀膜，粘接促进材料等
氧化硅（SiO）颗粒

氧化硅（SiO）颗粒

化学式：
SiO
规格：
1-2/2-4 mm
熔点：
1700 ℃
蒸发源：
B（W,Ta,Mo)
折射率：
1.8-1.9
透明波段：
400-9000nm
用途：
分束镜，彩色/防晒镀膜等
一氧化钛（TiO）颗粒

一氧化钛（TiO）颗粒

化学式：
TiO
规格：
1-3/3-5 mm
熔点：
1750 ℃
蒸发源：
RE,RS
折射率：
1.9-2.3
透明波段：
400-12000nm
用途：
三氧化二钇（Y2O3）颗粒

三氧化二钇（Y2O3）颗粒

化学式：
Y2O3
规格：
1-3/3-5 mm
熔点：
2410 ℃
蒸发源：
E
折射率：
1.87
透明波段：
300-12000nm
用途：
三氧化二钛 （Ti2O3）颗粒

三氧化二钛 （Ti2O3）颗粒

化学式：
Ti2O3
规格：
1-3 mm
熔点：
2130 ℃
蒸发源：
折射率：
1.9-2.3
透明波段：
400-12000nm
用途：
二氧化锡（SnO2）颗粒

二氧化锡（SnO2）颗粒

化学式：
SnO2
规格：
1-3 mm
熔点：
1127 ℃
蒸发源：
E,B（W)
折射率：
2.0-2.1
透明波段：
用途：
氧化锌（ZnO）颗粒

氧化锌（ZnO）颗粒

化学式：
ZnO
规格：
1-3 mm
熔点：
1975 ℃
蒸发源：
E,B（W,Mo)
折射率：
2.1
透明波段：
350-20000nm
用途：
三氧化二锑（Sb₂O₃）颗粒

三氧化二锑（Sb₂O₃）颗粒

化学式：
Sb₂O₃
规格：
1-3 mm
熔点：
656 ℃
蒸发源：
B（Ta)
折射率：
2.3
透明波段：
300-1000nm
用途：
氟化镁（MgF₂ ）颗粒

氟化镁（MgF₂ ）颗粒

化学式：
MgF₂
规格：
1-2/1-3 mm
熔点：
1266 ℃
蒸发源：
B（W,Ta,Mo)
折射率：
1.38
透明波段：
110-10000nm
用途：
增透膜,多层膜,滤光片，分光器
三氟化铈（CeF3）颗粒

三氟化铈（CeF3）颗粒

化学式：
CeF3
规格：
1-3 mm
熔点：
1460 ℃
蒸发源：
E,B(W)
折射率：
1.63
透明波段：
300-500nm
用途：
保护膜
氟化钙（CaF2）颗粒

氟化钙（CaF2）颗粒

化学式：
CaF2
规格：
1-3 mm
熔点：
1360 ℃
蒸发源：
B（W,Ta,Mo)
折射率：
1.23-1.46
透明波段：
150-12000nm
用途：
增透膜，偏光镜
氟化镱（YbF3）颗粒

氟化镱（YbF3）颗粒

化学式：
YbF3
规格：
mm
熔点：
1157 ℃
蒸发源：
E
折射率：
1.52
透明波段：
220-12000nm
用途：
增透膜，热反射膜/介质膜，
偏光镜，分束镜，激光镀膜
氟化钇（YF3）颗粒

氟化钇（YF3）颗粒

化学式：
YF3
规格：
1-3/3-5 mm
熔点：
1387 ℃
蒸发源：
折射率：
1.59
透明波段：
220-14000nm
用途：
增透膜，偏光镜，分束镜，
激光镀膜
六氟铝酸钠（Na₃AlF₆）颗粒

六氟铝酸钠（Na₃AlF₆）颗粒

化学式：
Na₃AlF₆
规格：
1-8 mm
熔点：
1000 ℃
蒸发源：
B（Ta,Mo)
折射率：
1.32-1.35
透明波段：
200-14000nm
用途：
窄带滤光片，紫外膜
氟化铝（AlF₃）颗粒

氟化铝（AlF₃）颗粒

化学式：
AlF₃
规格：
1-4 mm
熔点：
900 ℃
蒸发源：
B
折射率：
1.38
透明波段：
200-20000nm
用途：
增透膜
氟化镧（LaF₃）粉末

氟化镧（LaF₃）粉末

化学式：
LaF₃
规格：
1-3 mm
熔点：
1490 ℃
蒸发源：
E,B(W,Mo)
折射率：
1.55
透明波段：
200-12000nm
用途：
增透膜，介质镜，二向色滤光片
偏光镜
氟化钕（NdF₃）颗粒

氟化钕（NdF₃）颗粒

化学式：
NdF₃
规格：
1-4 mm
熔点：
1410 ℃
蒸发源：
B（Ta,Mo)
折射率：
1.61
透明波段：
220-6000nm
用途：
增透膜，偏光镜，分束镜，
激光镀膜
硫化锌（ZnS）颗粒

硫化锌（ZnS）颗粒

化学式：
ZnS
规格：
mm
熔点：
1900 ℃
蒸发源：
B（Ta,Mo)
折射率：
2.22
透明波段：
400-14000nm
用途：
减反射膜，热反射膜，
二向滤光片，偏光片等
铜（Cu）坩埚

铜（Cu）坩埚

化学式：
Cu
纯度：
99.99%
熔点：
1084 ℃
密度：
8.96 g/cm³
规格形状：
坩埚
钼（Mo）坩埚

钼（Mo）坩埚

化学式：
Mo
纯度：
99.50%~99.99%
熔点：
2630 ℃
密度：
10.22 g/cm³
规格形状：
坩埚、蒸发舟
钨（W）坩埚

钨（W）坩埚

化学式：
W
纯度：
99.50%~99.99%
熔点：
3407 ℃
密度：
19.35 g/cm³
规格形状：
坩埚、蒸发舟、灯丝
钽（Ta）坩埚

钽（Ta）坩埚

化学式：
Ta
纯度：
99.50%~99.99%
熔点：
2996 ℃
密度：
16.65 g/cm³
规格形状：
坩埚、锥台
碳（C）坩埚

碳（C）坩埚

化学式：
C
纯度：
99.99%
熔点：
3850 ℃
密度：
2.26 g/cm³
规格形状：
坩埚
铌（Nb）坩埚

铌（Nb）坩埚

化学式：
Nb
纯度：
99.50%~99.99%
熔点：
2468 ℃
密度：
8.57 g/cm³
规格形状：
坩埚、锥台
氧化铝（Al₂O₃）坩埚

氧化铝（Al₂O₃）坩埚

化学式：
Al₂O₃
纯度：
99.50%
熔点：
2020 ℃
密度：
3.98 g/cm³
规格形状：
坩埚
氮化硼（BN）坩埚

氮化硼（BN）坩埚

化学式：
BN
纯度：
99.50%
熔点：
3000 ℃
密度：
2.80 - 3.20 g/cm³
规格形状：
坩埚
二氧化硅（SiO₂）坩埚

二氧化硅（SiO₂）坩埚

化学式：
SiO₂
纯度：
99.99%
熔点：
1710 ℃
密度：
2.32 g/cm³
规格形状：
坩埚
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