钨靶材，钨的化学元素符号是W，原子序数是74，相对原子质量为183.85，原子半径为137皮米，密度为19.35克/每立方厘米，属于元素周期表中第六周期（第二长周期）的VIB族。钨在自然界主要呈六价阳离子，其离子半径为0.68×10-10m。由于W6+离子 半径小，电价高，极化能力强，易形成络阴离子，因此钨主要以络阴离子形式[WO4]2-，与溶液中的Fe2+、Mn2+、Ca2+等阳离子结合形成黑钨矿或白钨矿沉淀。经过冶炼后的钨是银白色有光泽的金属，熔点极高，硬度很大，蒸气压很低，蒸发速度也较小，化学性质也比较稳定。钨可以制造枪械、火箭推进器的喷嘴、切削金属的刀片、钻头、超硬模具、拉丝模等等，用途十分广泛，合金系状态中主要的是合金钢、纯钨的各种锻造件用于电子管生产、无线电电子学和X射技术中，化合物主要用于生产某些类型的漆和颜料、油墨、电镀等方面，也用作催化剂等。下图是钨溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片，平均粒径<50um。
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我们生产高纯度的溅射靶材，它重要的好处是在物理气相沉积的过程中，能获得具有优异的导电率和颗粒小化的薄膜。以下表格是3N5高纯钨溅射靶的成分分析证明书。采用的分析方法：1，使用ICP-OES对金属元素进行分析；2，使用LECO进行气体元素分析。
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