长沙鑫康新材料有限公司 金属靶材 钨(W)靶材
钨(W)靶材
钨(W)靶材
产品类别
高纯金属靶材
产品名称
钨(W)靶材
元素符号
W
纯度
3N5
形状
平面靶, 旋转靶
钨(W)靶材概述

钨靶材


     钨靶材,钨的化学元素符号是W,原子序数是74,相对原子质量为183.85,原子半径为137皮米,密度为19.35克/每立方厘米,属于元素周期表中第六周期(第二长周期)的VIB族。钨在自然界主要呈六价阳离子,其离子半径为0.68×10-10m。由于W6+离子 半径小,电价高,极化能力强,易形成络阴离子,因此钨主要以络阴离子形式[WO4]2-,与溶液中的Fe2+、Mn2+、Ca2+等阳离子结合形成黑钨矿或白钨矿沉淀。经过冶炼后的钨是银白色有光泽的金属,熔点极高,硬度很大,蒸气压很低,蒸发速度也较小,化学性质也比较稳定。钨可以制造枪械、火箭推进器的喷嘴、切削金属的刀片、钻头、超硬模具、拉丝模等等,用途十分广泛,合金系状态中最主要的是合金钢、纯钨的各种锻造件用于电子管生产、无线电电子学和X射技术中,化合物主要用于生产某些类型的漆和颜料、油墨、电镀等方面,也用作催化剂等。下图是钨溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片,平均粒径<50um。


钨靶材.jpg 高纯钨靶材.jpg

只要您提供详细的靶材信息,如纯度,尺寸,公差要求,及其他技术要求,我们将尽快为您提供报价,并提供最快的交期


钨靶材制备工艺流程

备料 - 烧结 - 化学分析 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装 - 发货


钨靶材及其制备方法

将纯度99.999%以上、粒度2.2~2.6μm的钨粉均匀混合;180~250MPa、5~10分钟的冷等静压压制成型;2300℃~2400℃、8~12小时的中频感应烧结;1450~1550℃退火90~180分钟后,经多道次热轧至5~15mm厚度,热轧总变形量大于60%;再经经1300~1400℃退火90~150分钟后,进行机械加工,其上下表面的机械加工量均≥1.5mm;最终获得的钨靶材不仅性能优异,且工艺相对简单,对设备的要求不高。


钨靶材的其他合金形式

钨钛合金、钨铜合金、钨锰合金、钨镍合金等








钽(Ta)靶材
镍(Ni)靶材