钌溅射靶材是由高纯度钌金属组成的灰色靶。熔点2334°
C ，密度12.37，热膨胀 6.4 µm /（m·K）。钌溅射靶材有各种形式，纯度，尺寸和价格。我们能够根据您提供给我们的任何规格/图纸提供定制的溅射材料。
钌靶材制备工艺流程
备料 - 烧结 - 退火 - 轧制 - 冲压 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 检验 - 包装
钌靶材制备方法
将粒度≤325目的钌粉冷压成型，冷压压力为250～350MPa，得到钌坯；将所述钌坯进行抽真空至0.008～0.12Pa后以10～20℃/min升温至790～820℃，保温30～50min后，再以5～10℃/min升温至第一温度加压，加压压力为50～70MPa；继续升温至第二温度，保温120～180min；第一温度为1000～1200℃，第二温度为1200～1350℃；后以5～8℃/min降温至1000～1100℃，保温55～65min，得到钌溅射靶材。
钌靶材产品优势
耐化学腐蚀、耐摔性、超耐磨、耐高温、防静电、防火性
钌溅射靶材的应用
钌溅射靶材用于在基板上生产纯钌薄膜，其在微芯片中显示出令人鼓舞的性能。
钌的其他应用包括：
在电子工业中用于制造电触点和片式电阻器
用作化学工业中电化学电池中氯生产的阳极。
用作铂和钯的硬化剂和多功能催化剂，用于从炼油厂和其他工业过程中去除H2S。
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