铝铬硅合金靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）的溅射靶材，主要由铝、铬、硅三种元素组成，具有高硬度、耐磨、抗高温氧化等特性，广泛应用于刀具镀膜、模具表面处理等领域。
铝铬硅合金靶材性能特点
高硬度与耐磨性：铬铝硅靶材溅射形成的涂层硬度可达30-35GPa，并通过非晶态Si₃N₄抑制晶粒长大，细化涂层结构，提升耐磨性能。
抗高温氧化：硅元素的加入使涂层氧化温度提高到1000℃以上，适用于高温切削加工环境。
化学稳定性：合金靶材具有低杂质含量（纯度≥99.9%），保证涂层成分稳定，增强耐腐蚀性和抗氧化性。
导电性与导热性：铬和铝的组合赋予靶材良好的导电导热性能，适合均匀溅射。
铝铬硅合金靶材制备方法
原料准备：金属铬（纯度≥99.95%）、铝（纯度≥99.99%）、硅（纯度≥99.99%），粉末配比Al 50–70 at%、Cr 20–40 at%、Si 2–10 at%。
冷等静压成型：压力20-200MPa，保压10-30分钟，形成高密度坯料。
脱气处理：温度300-500℃，真空度10⁻¹-10⁻⁴Pa，保温5-30小时。去除粉末中吸附的气体（如氧气、氮气），避免烧结时产生气孔缺陷。
热等静压烧结：温度800-1300℃，压力120-150MPa，保温2-5小时。
后处理与加工：对烧结后的锭坯进行切割、抛光，达到目标尺寸。
铝铬硅合金靶材主要应用领域
光学镀膜：用于制备红外反射膜、透明导电膜（如AZO，铝掺杂氧化锌），应用于太阳能电池、节能玻璃等。
硬质防护涂层：用于工具、模具表面镀膜，提升耐磨性和寿命（如切削刀具、航空部件）。
半导体与显示技术：作为导电或阻隔层薄膜的原料（需高纯度靶材）。
装饰镀膜：提供金属光泽与耐腐蚀表面（如电子产品外壳）。
铝铬硅合金主要应用领域
航空航天领域：发动机叶片、燃烧室部件、高温紧固件。
汽车工业：涡轮增压器壳体、活塞头、排气系统部件。
电子封装：高功率LED基板、CPU散热盖（IHS）。
耐腐蚀环境：海水淡化蒸发器、化工反应釜内衬。
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