我们生产的钛铝合金溅射靶材具有高纯度，重要的优点是您的薄膜具有出色的导电性，并且在PVD过程中可以大限度地减少颗粒形成。下表是2N8高纯度钛铝 （30/70 原子％）溅射靶的典型分析证明 。
分析方法：1。使用ICP-OES分析金属元素。2.使用LECO分析气体元素。
值得注意的是，我厂还专业生产各种铁基合金溅射靶材，包括 Ti + Cr， Ti + Nb和 Ti + Si + Cu 合金溅射靶材，定制合金成分，尺寸灵活，公差更小，均匀微观结构。
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