硅溅射靶材为深灰色。硅在室温下为固体，熔点为1,414°C（2,577°F），沸点为3,265°C（5,909°F）。像水一样，与大多数其他物质不同，它在液态时的密度比固态时更大，并且在冻结时会膨胀。硅具有149 W•m-1•K-1的较高导热系数，导热性很好。硅溅射靶材主要用于反应磁控溅射中，以沉积SiO2和SiN等介电层。作为重要的功能性薄膜材料，它们具有良好的硬度，光学，介电性能和耐磨性。硅靶材的耐腐蚀性在光学和微电子领域具有广阔的应用前景，并且目前在世界范围内被广泛用作功能材料。目前，它主要用于LCD透明导电玻璃，建筑LOW-E玻璃和微电子行业。硅溅射靶可分为两种：单晶和多晶。我们通过直拉晶体生长方法生产平面硅溅射靶。
备料 - 真空电子束熔炼 - 金刚石线切割 - 退火 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装
硅溅射靶材的应用
主要用于半导体芯片、平板液晶显示器（LCD）、装饰和功能镀膜工业、太阳能电池板、数据储存工业（光盘工业）、光通讯工业、玻璃镀膜（建筑玻璃和汽车玻璃）工业、抗腐蚀抗磨损（表面改性）等领域。
硅铝、铜硅、镍铬硅合金靶材等。
厂房地址：湖南省浏阳市高新技术开发区永泰路创新创业园A4-1栋
邮箱地址：erin@xk-sputteringtarget.com
全国咨询热线：
0731-86393472
Copyright © 2014 www.xk-sputteringtarget.com 长沙鑫康新材料有限公司版权所有 备案号： 湘ICP备17005295号-2
