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鑫康的厂房规划图:在未来五年,鑫康将通过不断追加投资,建设一个全新的、先进的新材料生产和研发基地,打造材料行业的优秀品牌,以高于行业的工艺水准与技术储备,以完善的品质体系,为全球客户服务...
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“创星浏阳”2019年浏阳高新区创新创业大赛决赛圆满落幕

为深入实施创新驱动发展战略,进一步激发浏阳高新区创新潜力,集聚创业资源,营造双创氛围。浏阳高新区睿空间于今年8月份启动了“创星浏阳”2019年浏阳高新区创新创业大赛。此次大赛共征集30个项目,经过激烈角逐与层层选拔,最终有10个项目晋级决赛。

聚焦高端,链链融合打造“长沙芯”

积极开展行业高峰论坛、技术研讨会等活动,促推政校企交流互动……近年来,长沙以前瞻性战略眼光,聚合相关资源,统筹布局碳基材料产业链工作,在新一代半导体、高性能碳基复合材料、高端石墨及石墨烯等领域持续发力,打造了一批标杆企业、重点项目,初步形成了上中下游链条的体系融合,不断提升着我市碳基产业在全国的知晓率和知名度。

长沙发力新一代半导体,20个项目集中签约

湖南省人民政府消息显示,7月6日长沙新一代半导体产业链建设合作交流暨集中签约活动在湖南湘江新区举行,现场集中签约20个产业项目,同时长沙新一代半导体研究院正式揭牌,并成立新一代半导体产业链项目投资基金联盟。

溅射靶材介绍:溅射中国“芯”

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材

行业深度:成长深一度,细看国产靶材市场

溅射技术作为薄膜材料制备的主流工艺,其应用领域广泛,如集成电路、平板显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、光学镀膜、电子器件、高档装饰用品等行业。高纯溅射靶材则主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域,如集成电路、平板显示器、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等行业

中国溅射靶材行业发展概况

溅射靶材简介 超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。 溅射靶材工作原理示意图如下: 一般来说,溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的核心部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜

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