钐靶材它是由钐金属通过真空熔炼制成的，主要用于制备薄膜材料、制备透明导电薄膜、制备高反射率的金属薄膜、制备半导体薄膜等。

锂靶材的主要成分是金属锂，具有低熔点、高活性、高电导率等特点，锂靶材在微电子、光伏、航空航天等领域有广泛应用。

钕靶材主要由高纯度钕金属构成，是一种银白色的物质。熔点为1021°C，沸点3074°C，具有相对较大的密度7.01 g/cm3。钕靶材在电子、信息、通讯、能源、医疗等领域都有广泛的应用，是一种非常重要的材料。

镨靶材由高纯度的镨金属制成，是一种用于磁控溅射、电子束蒸发等镀膜工艺的材料，主要由镨金属或镨化合物制成。

二氧化铈靶材是由高纯氧化铈粉末压制烧结成型，主要用于半导体行业、显示技术、光学应用。

利用真空环境下的高温将钇原料熔化，并通过冷却得到所需的块状或条状靶材。真空环境可以极大地减少氧和其他杂质的引入，从而获得高纯度的钇靶材。钇靶材主要用于电子信息产业、玻璃镀膜领域、耐磨材料、高温耐腐蚀、高档装饰品等行业。

钯靶材由99.95%纯度钯粉烧结制备而成，广泛应用于薄膜沉积、电子器件、光学应用、磁性材料等领域。

铱溅射靶材具有与金属铱相同的性能，是一种晶粒高定向取向的铱溅射靶材的制备。薄膜可用作功能性涂层和装饰涂层，并可镀在工具和珠宝的表面上，以提高其颜色、光泽、耐腐蚀性和耐腐蚀性。

9月22日，长沙海关关长朱光耀带队深入长沙、株洲两地开展企业调研。在调研了株洲南方普惠航空发动机、微智医疗器械、科能新材料等3家企业后，后来我司浏阳生产基地进行了调研考察... ...

钌靶材是指由钌（Ru）制成的用于靶材应用的材料。采用粉末烧结工艺制成，主要用于电子器件、光学器件的薄膜沉积。

铂靶材是一种高纯度、高密度、高熔点和化学稳定的金属靶材，常用于真空镀膜工业中。本文讲述铂靶材的制备方法，整体上可以使得制备得到的铂靶材厚度均匀，开裂率较低，成品率高。

银靶材白色有光泽的面心立方结构金属，是一种重要的材料，用于核能研究、医学影像、电子行业等领域。

金靶材通常由高纯度的黄金制成，黄金是一种致密、柔软的过渡金属，具有很强的延展性和韧性。用于物理蒸发、磁控溅射、离子镀等技术制备薄膜。

铋溅射靶材是由高纯铋金属组成的银色靶材，我们制备的金属铋平面靶材边角无崩角，表面光洁，粗糙度非常低。主要用于放射性同位素生产、核反应实验、辐射治疗等领域

铼靶材是由高纯铼金属组成的银灰色靶材。它的熔点高达3180°C，使其在高温环境下具有出色的稳定性。在半导体工业中，铼靶材用于制备薄膜材料，如硅、氮化硅等。