镍锰铝硅合金靶材是一种重要的合金靶材，其薄膜具有优异的抗氧化，耐腐蚀性以及良好的热稳定性。在电子、光学等领域有着广泛应用。

镍铬铝铁（NiCrAlFe）合金靶材是一类兼具高温稳定性、抗氧化性和良好溅射性能的功能材料，在航空航天、能源装备、电子器件和工业防护涂层等领域应用广泛。

镍钴铁合金靶材是一种典型的三元合金溅射靶材，兼具镍的耐腐蚀性、钴的高磁导率与铁的高强度特性，广泛用于制备薄膜太阳能电池电极、磁记录薄膜、微电子器件导电层等。

镍钴钒合金靶材是一种由镍（Ni）、钴（Co）、钒（V）三种主要元素按特定比例熔炼、加工而成的圆形或矩形的板状材料。广泛应用于物理气相沉积（PVD）和磁控溅射等领域，以制备具有特定电磁性能、耐腐蚀性或催化性能的薄膜。

镍钴铬合金靶材具有高强度、良好的韧性和抗拉强度，同时具备抗腐蚀性和抗氧化性等。通过熔炼铸造等工艺制成的平面或旋转靶材。它广泛应用于物理气相沉积（PVD） 技术中，是制备高性能合金薄膜的核心源材料。

镍铬铝合金是一类兼具高温稳定性、抗氧化性和良好溅射性能的功能靶材，广泛应用于制备高温防护涂层、耐磨涂层、半导体薄膜及传感器电极等领域。

镍硼合金靶材通过它制备出的镍硼薄膜，具有非晶态结构、高硬度、优异的耐磨耐腐蚀性以及独特的催化性能。通常用于半导体、光学薄膜、太阳能电池等领域。

镍钼合金靶是在高真空环境下，通过物理气相沉积技术（主要是磁控溅射）被轰击，使其原子或分子被溅射出来并沉积到基板（如玻璃、硅片、塑料等）上，从而形成一层薄而均匀的镍钼合金薄膜的材料。

镍硅合金靶材通过熔炼工艺制备而成的靶材。它兼具镍的导电、导热性能和硅的半导体特性，因此既被视为“高温合金”，也被用作功能薄膜的溅射源 。

镍锆合金靶材是一种由镍（Ni） 和锆（Zr） 两种金属元素按一定比例（常见的如Ni70Zr30）通过熔炼工艺做成圆形或矩形的溅射靶材。具有高强度，良好的热稳定性和优异的耐腐蚀性。广泛用于电子信息领域，表面防护领域以及生物医学领域等。

镍锰合金靶材其制备过程要求高纯度、高致密度、成分均匀且结构完整。通过粉末冶金法 “粉末制备 - 成型 - 烧结 - 后续加工” 四个关键步骤，将金属粉末转化为高密度、低杂质的靶材。

镍铌合金靶材是以镍（Ni）和铌（Nb）为主要元素，按一定比例熔炼制成的溅射靶材，具有较高的熔点，这使得它在高温溅射过程中能够保持稳定的形态，不易变形或熔化。广泛用于半导体，光学镀膜，显示技术等领域。

铜铝锌锡（Cu-Al-Zn-Sn）合金靶材是一类重要的溅射靶材，广泛应用于薄膜电子、光学涂层、磁存储等领域，其性能高度依赖于微观结构均匀性、致密度、成分均匀性及晶粒尺寸。

铜酸镧靶材它通常具有特定的形状（如圆形、方形），并需要绑定在背靶（如无氧铜）上，用于物理气相沉积技术，特别是脉冲激光沉积 和磁控溅射，以在基片（如硅片、蓝宝石等）上生长出高质量的铜酸镧薄膜。

铜锰镍合金靶材是一种重要的溅射靶材，按特定比例熔炼、加工而成。具有​​优异电学性能、热稳定性、耐腐蚀性和良好附着性​​的薄膜，广泛应用于半导体、微电子和装饰涂层等领域。