长沙鑫康新材料有限公司 金属靶材 铜(Cu)靶材
铜(Cu)靶材
铜(Cu)靶材
产品类别
高纯金属靶材
产品名称
铜(Cu)靶材
元素符号
Cu
纯度
4N, 5N, 6N
形状
平面靶, 旋转靶
铜(Cu)靶材概述

铜靶材


      铜靶材我们可生产纯度99.9%~99.9999%的各种纯度及要求的铜靶,其中氧含量最低可以<1ppm,主要用于显示屏及触摸屏配线及其保护膜,太阳能光吸收层、半导体配线等行业。除了满足客户平面靶(最大G8.5代)的需求,我们还可以生产铜的旋转靶,主要用于触摸屏行业。高纯铜靶材的晶粒很难打碎,我们只有通过超大变形量加工,控制栾晶的生长,以取得细小均匀的微观组织,从而可确保溅射镀膜时能获得较低侵蚀速率,并且降低溅射过程中颗粒的形成敏感度。下图是铜溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片,平均粒径<50um。


铜靶材.jpg 高纯铜靶材.jpg

只要您提供详细的靶材信息,如纯度,尺寸,公差要求,及其他技术要求,我们将尽快为您提供报价,并提供最快的交期


铜靶材制备工艺流程

备料 - 电解提纯 & 电子束熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装


铜靶材及其制备方法

通过多次电解、区域熔炼等方法将铜从99.95%提纯到99.99%、99.999%、99.9999%,国内最高纯度在99.9999%(6N)左右。有了高纯度铜锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铜靶材的要求。对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。


铜靶材的其他合金形式

锡铜合金、 砷铜合金 钨铜合金、银铜合金、镍铜合金靶材等








铬(Cr)靶材
镍钒(Ni + V)合金靶材