我们还提供其他定制形状和尺寸的溅射靶材及报价
金溅射靶具有与贵金属金（Au）相同的性质。黄金是具有光泽的黄色光泽的更美丽的贵金属之一。它的熔点为1,064°C，密度为19.3 g / cc，在1,132°C时的蒸气压为10 -4 Torr，理想的蒸发温度约为1,400°C。它柔软，致密，可延展，易延展，并且是热和电的优良导体。金溅射靶的沉积膜在半导体，传感器，电池和数据存储的生产中用作涂层。
金靶材制备工艺流程
备料 - 真空感应熔炼 - 退火 - 轧制 - 冲压 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 检验 - 包装
金靶材的应用
金溅射靶用于标准扫描电子显微镜（SEM）的涂层，它还被用来以薄薄的导电材料层覆盖样本。金需要防止在常规的SEM模式下用电子束使样品带电以及增加信噪比。其他：薄膜的物理气相沉积（PVD），激光烧蚀沉积（PLD），用于半导体，显示器，LED和光伏器件的磁控溅射。
金锗、金锡合金靶材等。
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