铝铬硅合金靶材是一种用于物理气相沉积（PVD）的溅射靶材，主要由铝、铬、硅三种元素组成，具有高硬度、耐磨、抗高温氧化等特性，常用于刀具、模具、半导体器件等表面功能性涂层的制备。
铝铬硅合金靶材参数
纯度：3N
配比：AlCrSi 60/30/10at%
尺寸：D50.8x6.3mm 按规格定制
铝铬硅合金靶材性能特点
机械性能：具有较高的强度和硬度，能增强薄膜的耐磨性和抗变形能力，使其在应用中不易受到外力破坏。
高硬度：由于铬和硅的加入，使得铝铬硅合金靶材具有较高的硬度，经过物理气相沉积工艺制备的涂层，其硬度相比纯铝涂层有显著提高，能够有效抵抗磨损和划伤。
良好的耐磨性：高硬度以及合金化的微观结构，使靶材在使用过程中具有良好的耐磨性能，可用于制备在恶劣磨损环境下工作的部件涂层，如机械零件、刀具等，延长其使用寿命。
抗高温氧化性：硅元素在涂层中可形成非晶态的 Si₃N₄，能有效地阻碍氧向涂层内部的扩散，明显提高涂层的抗高温氧化性能，使其在高温环境下仍能保持较好的稳定性，适用于高温工作的设备和部件。
优异的耐腐蚀性：铝、铬、硅三种元素相互配合，可在靶材表面形成致密的氧化膜，阻止外界腐蚀性介质的侵入，提高靶材的耐腐蚀性能，可用于制备在腐蚀环境中使用的零件涂层，如化工设备、海洋工程部件等。
良好的导电性：铝具有良好的导电性，铬和硅的加入对整体导电性影响较小，因此铝铬硅合金靶材仍保持了较好的导电性能，适合用于需要导电性能的物理气相沉积工艺。
铝铬硅合金靶材制备工艺
真空熔炼法：将纯度较高的铝、铬、硅原料按一定比例放入真空熔炼炉中，在高真空环境下加热熔炼，使各元素充分熔合，获得成分均匀的铝铬硅合金锭。然后对合金锭进行后续加工，如锻造、轧制等，以获得所需形状和性能的靶材。
粉末冶金法：首先将铝、铬、硅的金属粉末按预定比例混合均匀，然后在一定压力下进行压制，制成坯体。再将坯体放入高温炉中进行烧结，使粉末颗粒之间发生冶金结合，形成致密的合金靶材。为了提高靶材的致密度和性能，还可采用热等静压技术对烧结后的靶材进行处理。
铝铬硅合金靶材应用领域
硬质防护涂层：用于工具、模具表面镀膜，提升耐磨性和寿命（如切削刀具、航空部件）。
半导体与显示技术：作为导电或阻隔层薄膜的原料（需高纯度靶材）。
装饰镀膜：提供金属光泽与耐腐蚀表面（如电子产品外壳）。
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