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什么是热蒸发薄膜沉积?



物理气相沉积 (PVD) 的常用方法之一是热蒸发。这是薄膜沉积的一种形式,它是一种真空技术,用于将蒸发镀膜材料应用于各种物体的表面。涂层,也称为薄膜,通常在埃到微米的厚度范围内,可以是单一材料,也可以是分层结构中的多种材料。


热蒸发加热源材料的方法

灯丝蒸发的方法是简单的电阻加热元件或灯丝。这些电阻蒸发灯丝有许多不同的物理配置,包括许多被称为“舟”的材料——基本上是合适的高温金属(例如钨)的薄金属片,带有成型的凹痕或凹槽,材料放置在其中。灯丝电源提供低电压的安全性,需要非常高的电流,通常是几百安培。




热蒸发工艺

使用热蒸发技术应用的蒸发材料可以是纯原子元素,包括金属和非金属,也可以是氧化物和氮化物等分子。要镀膜的物体称为基材,可以是多种物体中的任何一种,例如:半导体晶片、太阳能电池、光学元件或许多其他可能性。

热蒸发是指在高真空室内加热某固体蒸发材料,使其达到产生一定蒸气压的温度。在真空内部,即使相对较低的蒸气压也足以在腔室内产生蒸气云。这种蒸发材料构成了蒸汽流,它穿过腔室并撞击基板,作为涂层或薄膜粘附在基板上。在大多数热蒸发过程中,材料被放置在坩埚中加热到其熔点使其成为液体,然后继续加热变成蒸汽,蒸汽流上升,被倒置在腔室顶部的基板被附伤一层薄膜。此热蒸发系统设计和方法可以调整许多参数,让工程师能够针对诸如厚度、均匀性、粘合强度、应力、晶粒结构、光学或电学特性等变量获得所需的结果。 .


我们还提供残余气体分析仪 (RGA) 等附件以及其他自定义功能和自定义自动化功能,以帮助您完善热蒸发技术和方法。低温泵是用于蒸发的流行的高真空泵类型,但如果需要,也可以使用其他选项。无论选择哪种选项,薄膜蒸发系统都可以提供相对较高的沉积速率、实时速率和厚度控制以及(具有合适的物理配置)良好的蒸发流方向控制,用于提升处理等目的,以实现直接图案涂层。如果您对蒸发材料或者蒸发镀膜有疑问,请向我们联系


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