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长沙鑫康新材料有限公司 合金靶材 镍钒(NiNb)合金靶材
镍钒(NiNb)合金靶材
镍钒(NiNb)合金靶材
产品类别
镍合金靶材
产品名称
镍钒(NiNb)合金靶材
元素符号
Ni+Nb
纯度
2N5,3N
形状
平面靶 异型定制
镍铌合金靶材

镍铌合金靶材是以镍(Ni)和铌(Nb)为主要元素,按一定比例熔炼制成的溅射靶材,其核心特性包括双相纳米结构、超低间隙元素含量及高温强度优势,广泛应用于半导体器件核能系统等领域。


镍铌合金靶材性能特点

高温稳定性:熔点高(Nb 2468 ℃,Ni 1455 ℃),在1000 ℃以上仍能保持良好的强度和抗蠕变性能。
耐腐蚀:表面易生成致密氧化膜,可抵御强酸、强碱及高温燃气腐蚀。
导电/导热性好:适合用作电子薄膜的导电层或阻挡层。
低杂质、高纯度:溅射级靶材通常要求≥99.95 %,氧、碳、氮等杂质控制在0.05–0.2 %以内,保证镀膜质量。晶粒细小均匀(μm 级),溅射速率稳定、膜厚均匀。


镍铌溅射靶材


镍铌合金靶材制备方法

熔炼: 将高纯度的镍和铌金属在真空或惰性气体保护下进行熔炼(如真空感应熔炼、电弧熔炼),确保成分均匀并减少杂质。
成型: 通过锻造、热轧或冷轧等工艺将铸锭加工成接近靶材终形状的坯料。
热处理: 进行均匀化退火,以消除内应力、细化晶粒,提高材料的致密度和性能一致性。
机械加工: 使用精密机床将坯料加工成客户要求的终尺寸和形状,并保证表面光洁度和公差。


镍铌合金靶材应用领域

半导体领域:可用于溅射制备阻挡层、电极和互连材料等。镍铌合金薄膜能够有效地阻止金属原子的扩散,提高半导体器件的性能和可靠性,在集成电路制造中具有重要应用。
显示技术领域:在 OLED、液晶显示器等平面显示行业,镍铌合金靶材可用于制备电极或反射层材料,有助于提高屏幕的亮度、响应速度和色彩稳定性。
光学镀膜领域:可用于制备各种光学涂层,如红外反射膜、抗激光损伤膜层等,应用于精密光学器件、激光系统和光学仪器等领域,以满足不同的光学性能要求。
耐磨与耐蚀涂层领域:由于其良好的耐磨和耐蚀性能,镍铌合金靶材可用于在机械零件、工具表面等制备耐磨和耐蚀薄膜,提高零件的使用寿命和性能,在航空航天、汽车制造、机械加工等行业有广泛的应用前景。




镍铌(NiNb)合金靶材