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ITO靶材不同制备方法的优缺点

ITO靶材制备方法


之前我们介绍了ITO靶材的四种主要成型方法,主要是关于它们的定义和特点。而今天我觉得有必要谈谈每种方法的优缺点,这有助于你在准备ITO靶材时在它们之间做出选择。


ITO靶材制备方法热压

热压法是压制成型和热烧结同时进行的工艺,该工艺的优点是:

(1)在热压过程中,由于粉末处于热塑性状态,变形阻力小,塑性流动和致密化容易,因此所需的成型压力小。(2)同时加热和加压有利于粉末颗粒之间的接触、扩散和流动,降低烧结温度和缩短烧结时间,抑制晶粒长大。(3)热压法容易得到接近理论密度、孔隙率接近于零的烧结体,容易得到细晶组织。

(2)同时加热和加压有利于粉末颗粒之间的接触、扩散和流动,降低烧结温度和缩短烧结时间,抑制晶粒长大。

(3)热压法容易得到接近理论密度、孔隙率接近于零的烧结体,容易得到细晶组织。

这种方法的主要缺点是:

(1)由于热压设备和模具尺寸的限制,得到的目标尺寸较小。目前目标的大尺寸为400×300mm。

(2)该方法对模具材料(一般为高纯高强度石墨)要求较高。而且热压设备需要进口,不适合工业化连续生产。生产效率低,成本高。

(3)靶材晶粒的均匀性差。


ITO靶材制备方法热等静压

热等静压是制备ITO 溅射靶材常用的方法。它具有以下优点:

(1)可以克服石墨模具中热压的缺点。

(2)在加热加压状态下,产品同时向各个方向加压,使所得产品具有很高的密度(接近理论密度)。

(3)热等静压强化了压制和烧结过程,降低了烧结温度,从而避免了晶粒长大,使制品获得优良的物理机械性能。

这种方法的主要缺点是 :

(1)靶材尺寸受设备压力和气缸尺寸的限制,难以制备大尺寸靶材。

(2)设备昂贵,投资成本高。

(3)生产效率低,生产成本高,使产品缺乏竞争力。


ITO靶材制备方法常温烧结

常温烧结法的主要优点是:

(1)靶材尺寸不受设备限制,可以生产大尺寸靶材。

(2)设备投资少,生产成本低,生产效率高,靶材性能优良,易于工业化生产。

(3)该方法适用于高端显示器镀膜靶材的性能要求。

它的缺点是:

(1)该方法与其他方法相比是难烧结的方法。为了获得致密的烧结体,通常需要添加烧结助剂。然而,烧结助剂很难从烧结体中去除,从而降低了产品的纯度。

(2)对粉体的形状、粒度和粒度分布有严格要求。为达到要求,一般对粉体进行球磨、气流磨和沉降分级。

(3)生产的靶材一般较薄。


ITO靶材制备方法冷等静压

冷等静压制备ITO靶材的优点是:

(1)与机械压制相比,由于冷等静压压力大,工件受力均匀,特别适合压制大尺寸粉末制品。

(2)压粉产品具有密度高、均匀的优点。

(3)压粉不需要添加润滑剂等。

(4)生产成本低,适合大批量生产。

然而,高压氧的使用使该过程变得危险。


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