铜溅射靶材是真空镀膜行业的优良溅射材料。溅射靶材是一组特殊的材料，特别适用于薄膜镀膜， 铜溅射靶材是高纯度铜金属经过一系列工艺后的产物。它具有特定的尺寸和形状。由于高纯铜材料具有许多优异的性能，铜靶在电子、通讯、超导、航空航天等前沿领域得到了广泛的应用
如何制作铜溅射靶 – 第 2 步
接下来的一系列步骤包括锻造、轧制和热处理原材料中的高纯铜锭。目的是使铜锭中的晶粒更小，密度更高，以满足溅射所需的铜靶要求。
如何制作铜溅射靶——第 3 步
变形处理后，加工出高纯度铜溅射材料，以达到高精度和高表面质量，并适合真空镀膜机的尺寸。
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