
镍钴铁合金靶材是一种典型的三元合金溅射靶材,兼具镍的耐腐蚀性、钴的高磁导率与铁的高强度特性,广泛用于制备薄膜太阳能电池电极、磁记录薄膜、微电子器件导电层等。其制备需兼顾成分均匀性、高致密度、晶粒细化三大核心要求,主流制备方法以粉末冶金法为主,辅以真空熔炼 - 铸造法和等离子喷涂法。
镍钴铁合金靶材主要特征
优异的软磁性能:这是其重要的特性。薄膜具有高饱和磁化强度、低矫顽力和高磁导率。这意味着它容易被磁化,也容易退磁,磁损耗低,非常适合在高频下工作。
良好的机械性能:合金化使其硬度、强度和耐磨性通常优于纯铁或纯镍靶材。
可控的热膨胀系数:通过调整比例,可以使其薄膜的热膨胀系数与硅、玻璃等常用衬底相匹配,提高器件的可靠性。
优异的电化学性能(特定比例下):尤其是在锂电池领域,含镍钴铁的薄膜可作为高性能电极材料。

镍钴铁金靶材制备方法
原料熔炼:将高纯镍、钴、铁金属块按比例配料,置于真空感应熔炼炉中,在真空度≤1×10?3Pa 下加热至 1500~1600℃,使原料完全熔融并搅拌均匀,避免成分偏析。
浇铸成型:将熔融的合金液浇铸到石墨模具中,快速冷却获得合金铸锭,冷却速率控制在 10~50℃/s,抑制粗大晶粒生成。
锻造与轧制:铸锭经高温锻造(温度 1100~1200℃)和热轧处理,破碎铸造组织,细化晶粒,提升合金的致密度和塑性。
机加工与绑定:经切割、车削、磨削至靶材尺寸
镍钴铁合金靶材应用领域
半导体/集成电路:Cu 扩散阻挡层、Ta/CoFe 双层电极、磁隧道结 (MTJ) 的自由层。
薄膜太阳能电池:背电极或缓冲层,提高欧姆接触与耐候性。
MEMS 与传感器:制备低损耗电感、磁屏蔽层、微磁执行器。
表面功能涂层:耐磨、防腐、装饰一体化涂层,用于汽车零件、航空紧固件、生医植入物
镍钴铁合金应用领域
电子工业:用于半导体芯片封装、集成电路引线框架等,其与玻璃相近的热膨胀系数可确保电子元件在温度变化时的密封可靠性和长期稳定性。
磁性材料领域:可用于制备永久磁铁、磁传感器等磁性材料,其高磁导率和矫顽力等特性使其在数据存储和电子设备中应用广泛。
航空航天领域:由于其具有高热稳定性和抗腐蚀性,可用于制造航空发动机传感器、卫星结构件等,在温差极大的太空环境中,能保持仪器的精度。
精密仪器:适用于光学镜座、激光器支架等需要严格控制尺寸的部件,可避免热胀冷缩导致的校准偏差。
能源领域:可作为燃料电池双极板、核反应堆密封件等的材料,依赖其耐腐蚀与高温稳定性。
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