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高纯钆靶材制备方法及应用领域介绍

钆靶材


钆靶材是一种用于溅射镀膜工艺的材料,主要由金属钆(Gd)和其他合金元素组成。是一种银白色的金属,有延展性,熔点1313°C,沸点3266°C,密度7.9004g/cm3。我们的钆靶材具有较高的纯度,一般在99.9%以上。钆靶材需要具有高密度,通常通过高温烧结工艺实现。


钆靶材特征

钆靶材形状:平面靶、异型定制

钆靶材纯度:3N

钆靶材尺寸:按图纸加工或其他者定制

我们还可以提供金属钆块、钆方块、钆颗粒等


钆靶材制备工艺

原料准备:根据需要制备的钆靶材的成分要求,准确称取所需的钆粉。

混合:将所称取的钆粉在球磨机中混合均匀,以确保元素之间的良好分散。

压型:将混合后的粉料通过冷等静压或模压的方式压制成所需的形状,得到粉末压坯。

烧结:将粉末压坯置于高温烧结炉中,在一定的温度和气氛下进行烧结,使粉料颗粒之间形成冶金结合,得到高密度的钆靶坯。烧结温度通常在1300℃-1500℃之间。

机加工:对烧结后的钆靶坯进行机加工,以达到所需的尺寸和形状。

表面处理:对加工后的钆靶材进行表面处理,如清洗、抛光等,以提高其表面质量。

检测:对制备好的钆靶材进行性能检测,如密度、硬度、纯度等,以确保其满足使用要求。


钆靶材成本报告


上图是钆靶材的材质分析报告。


钆靶材应用

光学薄膜:钆靶材广泛用于制备光学薄膜,如反射膜、增透膜、分束膜等。这些光学薄膜可以应用于激光器、光学仪器、显示器等设备,以提高其光学性能。

电子薄膜:钆靶材用于制备电子薄膜,如电容器、电阻器、磁性存储器等电子元器件。这些电子薄膜具有良好的电学性能和稳定性,广泛应用于电子设备和集成电路中。

磁性薄膜:钆靶材可用于制备磁性薄膜,如磁记录介质、磁性传感器等。这些磁性薄膜在信息存储、磁性检测等领域具有重要应用。


金属钆其他应用

磁性材料:金属钆具有良好的磁性性能,可以用于制备各种磁性材料,如磁记录介质、磁性传感器等。在信息存储、磁性检测等领域具有重要应用。

耐火材料:金属钆可用于制备高性能耐火材料,如高温炉衬、火箭发动机喷嘴等。这些耐火材料在高温环境下具有良好的稳定性。

电子元器件:金属钆可用于制备电子元器件,如电阻器、电容器等。这些电子元器件在电子设备和集成电路中具有广泛应用。

研究实验:金属钆作为稀土元素,具有独特的物理和化学性能,常被用于科学研究实验,如材料科学、化学反应机理研究等。

其他应用:金属钆还可用作催化剂、光催化材料、磁性记录装置等领域的原料。

总之,金属钆在电子、光学、医疗、核能等领域具有广泛的应用前景。随着科学技术的发展,其应用领域还将不断拓展。


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