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高纯溅射镀膜铕靶材制备工艺及应用介绍


铕靶材


铕靶材是高纯度金属铕组成的溅射靶,通常形状为平面靶,也可以根据需要进行异型定制。熔点为822°C,密度为5.24 g/cm3。铕靶材可以被用来制备薄膜或涂层,这些薄膜或涂层可以是单一的铕,也可以是铕的化合物。


铕靶材特征

铕靶材形状:平面靶、异型定制

靶材纯度:3N

靶材尺寸:按图纸加工或其他者定制

我们还可以提供金属铕块、铕粉、铕颗粒等


铕靶材制备工艺

原料准备:准备铕的高纯金属作为原料;

熔炼:将铕原料放入真空熔炼炉中,在高温下进行熔炼,使其形成均匀的液态;

铸造:将熔炼后的铕液态倒入模具中,进行铸造,形成靶材的形状;

加工:对铸造后的靶材进行加工,如研磨、抛光等,以获得所需的表面光洁度和尺寸精度;

清洗:对加工后的靶材进行清洗,以去除表面的污垢和杂质;

包装:将清洗后的靶材进行包装,以保护其表面不受污染;


铕靶材成分分析图


上图是铕靶材的材质分析报告。


铕靶材应用

显示器:铕靶材用于制造有机发光二极管(OLED)显示器,OLED 显示器具有高对比度、高亮度、快速响应等优点,是目前受欢迎的显示器之一;

太阳能电池:铕靶材用于制造铜铟镓硒(CIGS)太阳能电池,CIGS 太阳能电池具有高转换效率、低成本等优点,是未来太阳能电池的发展方向之一;

半导体:铕靶材用于制造半导体芯片,半导体芯片是电子产品的核心部件,铕靶材的质量和性能对半导体芯片的质量和性能有着重要的影响。

光学仪器:铕靶材用于制造光学仪器,如激光二极管、光学传感器等,铕靶材的光学性能对光学仪器的性能有着重要的影响。


金属铕其他应用

荧光材料:金属铕的荧光性质非常突出,被广泛应用于荧光灯、LED 等照明设备中,以及生物荧光标记、荧光传感器等领域;

磁性材料:金属铕具有较高的磁矩和磁各向异性,因此被用于制造磁性材料,如永磁体、磁记录材料等;

催化剂:金属铕可以作为催化剂用于许多化学反应,如氧化反应、加氢反应等;

光学材料:金属铕的光学性质也非常独特,被用于制造光学材料,如激光材料、光学滤波器等。


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