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镁靶材制备方法及应用分析

镁靶材


镁靶材具有与金属镁相同的性能,它的密度为 1.738 g/cm3,熔点为650℃,沸点为1091℃,是一种银白色的轻质碱土金属。金属镁具有一定的延展性和热消散性;具有比较强的还原性,常用做还原剂,去置换钛、锆、铀、铍等金属;还可用于制造轻金属合金、球墨铸铁、科学仪器和格氏试剂等;也能用于制烟火、闪光粉、镁盐、吸气器、照明弹等。 镁溅射靶材可用以真空镀膜,实验或研究级别用镁靶材,电子,光电,军用,装饰镀,功能薄膜等


镁靶材特征
镁靶材形状:平面靶 异型定制
镁靶材纯度:3N5, 4N
镁靶材尺寸:按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供镁丝、镁棒、镁粒、镁块等

镁粒

镁靶材制备工艺
制备方法采用3次真空热处理,有效避免了镁靶材的氧化现象,得到了晶粒细小均一的镁靶材;所述制备方法工艺流程简单,将镁锭进行第一真空热处理,然后在保护性气氛下进行一次锻造,一次锻造后进行冷却,得到第一镁坯;将得到的镁坯进行第二真空热处理,然后在保护性气氛下进行二次锻造,二次锻造后进行冷却,得到第二镁坯;得到的第二镁坯进行轧制,得到第三镁坯;将第三镁坯进行第三次真空热处理,然后进行冷却,得到镁靶材。

镁靶材应用
随着微电子与光伏产业的发展,高纯镁靶材已广泛应用于电子产品与光伏镀膜,以其高纯净度,降低了杂质带来的干扰,提高了产品稳定性,延长产品的使用寿命。

镁金属材料其他应用
1、应用于航空航天镁合金铸件的生产。 由于产品纯度高,杂质含量极少,可以减少有害杂质对合金成分的干扰,保证添加元素与镁有效合金化,提高稀土等添加元素的利用率,改善合金产品的组织结构,提高产品性能,并能够明显提高产品的耐腐蚀性,延长使用寿命,提高安全性。
2、应用于核工业材料的还原。作为高纯材料的还原剂,首先应当保证还原剂本身的高纯净度,才能避免材料在生产过程中的污染,从而得到高纯净度的产品,因此,高纯镁在核工业材料的还原生产中,发挥着相当重要的作用。
3、制药与精细化工产品。高纯镁还被广泛应用于制药与精细化工领域。以高纯镁作为添加剂,能够更有效地减少重金属元素给产品带来的污染,能够满足产品安全性的需要,维护人体健康。

镁靶材其他系列产品
除镁靶材外,我们还可以提供铝酸镁、氧化镁、镁锌氧化物、掺杂镁的氧化锌、二硼化镁、硅化镁、氟化镁等陶瓷溅射靶材。同时,还提供镁颗粒、氧化镁颗粒、氟化镁颗粒等镁的蒸发材料。


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