溅射靶材使用前的准备工作有哪些?

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀材料上，使溅射的原子遵循动量转换原理，从具有高动能的材料上飞离到基板上，形成薄膜。这种材料称为溅射靶材。这里我们谈谈溅射前的一些准备工作。

溅射准备
保持真空腔至关重要，尤其是保持溅射系统清洁。润滑油、灰尘和以前的涂层形成的任何残留物都会聚集水分和其他污染物，直接影响真空度并增加成膜失败的可能性。靶材短路或起弧、成膜表面粗糙、化学杂质含量过高等原因往往是溅射室、溅射枪、靶材不干净造成的。

1. 为保持镀层的成分特性，溅射气体（氩气或氧气）必须清洁干燥。基板安装在溅射室后，必须抽出空气以达到工艺所需的真空度。

2、暗区屏蔽罩、空腔壁、相邻面也需要保持清洁。清洁真空腔时，建议使用玻璃球抛丸法处理脏件。早期好用压缩空气清除型腔周围的溅射残留物，然后用浸渍氧化铝的砂纸轻轻打磨表面。纸张抛光后，应用酒精、丙酮和去离子水清洗。同时，建议使用工业吸尘器进行辅助清洁。

3.真空密封塑料袋包装，内置防潮剂。

4. 使用目标时不要用手直接接触目标。在使用目标之前，请戴上干净且不起毛的防护手套。不要用手直接接触目标。

[免责声明]本站文章部分为原创，其余仅做网络公开资料的翻译、归纳和整理，不属于商业用途，仅用于读者信息分享，供读者学习参考，不对文章内容的真实性、合法性、准确性、有效性、完整性等提供保证及负责，且不对读者提供任何投资及应用建议。本站尊重知识产权，因整理资料所需，文中引用部分有来源于第三方公开的数据、图片等内容的，如有版权的则其所属的知识产权归属原作者，本站文章凡有引用的内容均在文末标注了原文出处或者原作者，若版权所有者认为文章涉嫌侵权或其他问题，请联系我方（联系电话：0731-86393472）及时处理。本站提供技术方面的文章不用于商业仅供大家学习参考，力求数据严谨准确，但因受时间及人力限制，文章内容难免有所纰漏，如有重大失误失实，敬请不吝赐教批评指正。本站原创文章版权归本网站所有，转载请联系本站，本站拥有对此声明的解释权。