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四种常用溅射靶材应用介绍

溅射靶材

溅射靶材种类多,纯度要求高,而且应用行业也很广泛,今天我们来讲讲四大领域常用的这四种溅射靶,高纯铝靶材、钛靶材、钽靶材、钨钛靶材。它们涉及的领域包括平板显示、半导体、存储和太阳能电池。

铝靶(库存纯度 99.99% - 99.999%)
高纯铝及其合金是应用很广泛的导电薄膜材料之一。在其应用领域,超大规模集成电路芯片的制造要求溅射靶金属的纯度非常高,通常高达99.9995%,而平板显示器和太阳能电池的金属纯度略低。

钛靶 (库存纯度 99.99% - 99.999%)

钛是超大规模集成电路芯片中常用的阻隔膜材料之一(对应的导电层材料为铝)。钛靶材将在芯片前制造过程中与钛环一起使用。主要功能是辅助钛靶材的溅射工艺,主要应用于超大规模集成电路芯片制造领域。

钽靶(库存纯度 99%,99.5% ,99.9%,99.995%,99.99%,99.995%99.999%)

随着智能手机、平板电脑等消费电子产品需求爆发式增长,高端芯片需求大幅增加,钽成为热门矿产资源。但钽资源的稀缺性使得高纯钽靶材价格昂贵,主要用于大规模集成电路等领域。

钛钨靶材(库存纯度99.95%)

钨钛合金具有低电子迁移率、稳定的热机械性能、良好的耐腐蚀性和良好的化学稳定性。近年来,钨钛合金溅射靶材已被用作半导体芯片栅极电路的接触层材料。此外,钨和钛靶材还可以用作半导体器件金属连接中的阻挡层。用于高温环境,主要用于vlsI和太阳能电池。

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