镀膜行业中可以应用蒸发的方式实现薄膜沉积。利用这种薄膜沉积方法，将用于沉积的源材料在真空中蒸发，蒸汽粒子即可以自由地移动到基材的表面。在到达基材衬底时，蒸发的材料沉降并凝结回固态，在基材上形成薄膜。
不同蒸发源的种类
用于制造蒸发源的材料通常具有高熔点和低蒸气压。
灯丝材质为钨、钼、钽等高熔点金属，一般将蒸发物质挂或放置在灯丝上，在真空中使大电流通过包含蒸发材料的灯丝，这些材料将被加热到它们的熔点终使其蒸发。
用于蒸发薄膜沉积的坩埚由耐高温材料制成，其材质包括钨、钼、钽、及耐高温的氧化铝、石墨或氮化硼。通常，制造商需要根据要蒸发的材料来选择不同的坩埚。
蒸发舟是真空蒸发铝材料的佳热蒸发源。通常舟形蒸发源是采用钨材料制造的，现在蒸发舟亦由可导电的高性能陶瓷复合材料制成，使用的主要原材料是氮化硼和二硼化钛，蒸发面可开槽或进行激光表面刻蚀，其性能可靠，蒸发率精确且使用寿命长。
通常，用于任何薄膜沉积工艺的蒸发源的选择取决于被镀膜的基材。 了解更多蒸发源及蒸发材料https://www.xk-materials.cn/goodsList_27_1.html（由此链接进入）
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