什么是溅射靶材

什么是溅射靶材

溅射靶材是一种用溅射沉积或薄膜沉积技术制造薄膜的材料。在这个过程中，溅射靶材料开始是固体，被气体离子分解成微小的粒子，形成喷雾并覆盖在另一种材料上，这就是所谓的衬底。溅射沉积通常用于制造半导体和计算机芯片。因此，大多数溅射靶材料是金属元素或合金，尽管也有一些陶瓷靶材可以为各种工具制造硬化的薄涂层。

溅射靶材的大小
根据所制备薄膜的性质，溅射靶的尺寸和形状可以非常大。小的靶标直径不到1英寸（2.5厘米），而大的矩形靶标的长度远超过1码（0.9米）。一些溅射设备需要更大的溅射靶，在这种情况下，制造商将制造分段靶，并用特殊接头连接。

溅射靶材形状的多样性
溅射系统的设计，即进行薄膜沉积过程的机器，已经变得更加多样和具体。相应地，靶标的形状和结构也开始多样化。溅射靶材的形状通常是长方形或圆形，鑫康新材料可根据要求制作额外的特殊形状。某些溅射系统需要旋转靶来提供更精确、更均匀的薄膜。这些靶材的形状像长圆柱体，并提供额外的好处，包括更快的沉积速度、更少的热损伤和增加的表面积，从而带来更大的整体效用。

溅射靶材料的有效性取决于几个因素
包括它们的成分和用来分解它们的离子类型。如果靶材尽可能纯净，需要纯金属作为靶材的薄膜通常具有更高的结构完整性。用来轰击溅射靶的离子对于制备高质量的薄膜也很重要。一般来说，氩是用来电离和启动溅射过程的主要气体，但是对于有较轻或较重分子的靶，使用不同的惰性气体（例如用于轻分子的氖或用于重分子的氪气）更有效。气体离子的原子量要与溅射靶分子的原子量相近，才能优化能量和动量的传递，从而优化薄膜的均匀性。

溅射靶材应用领域
玻璃涂层
溅射镀膜机靶用于生产低辐射镀膜玻璃。Low-E玻璃由于具有节能，控制光和美观的能力而常用于建筑结构。

光学镀膜
光学涂料主要用于太阳镜，太阳镜，汽车前照灯，镜子，窗户，激光技术的滤光镜领域。

太阳能电池涂层
随着对可再生能源的需求不断增长，第三代薄膜太阳能电池采用溅射镀膜技术制备。

半导体类
大多数现代电子产品都包含用钽溅射靶生产的基本组件。这些包括微芯片，存储芯片，打印头，平板显示器以及其他。

鑫康溅射靶材的种类
溅射靶材有多种不同的材料（合金，陶瓷，金属等），可满足薄膜工艺工程师的各种需求。我们提供了一系列高质量的原料以满足这些需求，包括：
钽（Ta）：我们的电子束熔化（EBM）钽具有固有的高纯度，并且在各种高真空环境下均具有可靠的性能。
钼（Mo）：Mo溅射靶材具有出色的耐腐蚀性和出色的蚀刻特性，可提高触摸屏面板（TSP）的可靠性。
铌（NB）：NB标准同样适用于TSP应用，特别是显示设备中的阻挡层，覆盖层和导电层。
以上列举的是我们可用于溅射靶材的材料的一小部分。如果您想了解有关我们为溅射靶材制造提供的金属和合金的更多信息（溅射靶材产品系列入口），请立即与我们联系。