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鑫康专业定制制造的靶材公司

鑫康新材料有限公司是定制制造溅射靶材的专家。公司可以提供全系列的溅射靶材,包括从工业级到超高纯度的各种成分。也可以提供一些附加服务器,包括绑定,背板。公司始终坚持研发制造技术,以提供更多的价值和更好的产品。

靶材公司

溅射靶材定制: 鑫康新材料有限公司专业定制制造各种溅射靶材。我们拥有许多原材料化合物生产线,例如半导体生产线,化学化合物生产线,冶金生产线,粉末研磨生产线等。我们还有一支经验丰富的研究团队,他们开发了许多新的和特殊的溅射靶材,并且还成功下达了许多试用订单,并获得了许多客户的满意和长期的友谊。

溅射镀膜应用: 溅射镀膜薄膜主要用于玻璃及装饰薄膜,汽车电子,平面显示器,光通信/光学领域,光数据存储领域,薄膜太阳能电池,磁性数据存储领域。。。


溅射靶材的制造方法:
鑫康有很多制造方法,可用的方法如下所示:真空感应熔炼(VIM),真空感应悬浮熔炼炉真空烧结,真空熔铸,真空电弧熔炼,热压(HP),热等静压(HIP),冷等静压(CIP),冷压和烧结,FZ,CZ,CVD……现在我们的等离子喷涂技术正在研究和改进中,我们将提供一些样品。

背板和粘接服务: 背板包括OFHC铜,铝,钛,不锈钢或钼。尺寸将根据您的图纸进行设计。
粘接服务
背面金属化处理,大可达1600 x 1000mm
金属和非金属粘接覆盖率> 98%的
粘接完整性超声波c扫描

溅射靶的形状和大小:圆盘,矩形,台阶,板,片,管,箔,棒,锥度,环,S型枪,定制。
圆盘靶,柱靶,阶梯晶片靶(直径<350mm,厚度> 1mm)
矩形靶,切片靶,阶梯矩形靶(长度<1500mm,Witdh <300mm,厚度> 1mm)
管状靶/旋转溅射靶(外径< 300mm,厚度> 2mm)

溅射靶材列表(根据应用) :

半导体相关靶材/电极和导线的薄膜布置: 铝靶材,铜靶材,金靶材,银靶材,钯靶材,铂靶材,硅硅铝靶材,硅铝硅铜合金靶材等。

包膜电极薄膜: 钼靶材,钨靶材,钛靶材等;

凝集薄膜: 钨靶材,钛靶材等。


绝缘薄膜: PbTiZrO3靶材等。

具有磁性薄膜磁记录的硬盘: CoCrTa合金靶材,CoCrPt合金靶
,CoCrTaPt合金靶材...


薄膜磁头: CoTaCr合金靶材,CoCrZr合金靶材...


天然晶体膜: CoPt合金靶材,CoPd合金靶材...

相变光盘记录膜: TeSe靶材,SbSe靶材,GeSbTe靶材,GeTe合金靶材...

磁盘磁光记录膜: TbDyCo合金靶材,TbDyFe靶材,Al2Oe靶材,MgO靶材,SiN靶材...

CD反射膜: 铝靶材,AlTi合金靶材,AlCr靶材,金靶材,金合金靶材...

CD保护膜: SiN靶材,SiO2靶材,ZnS靶材...

平面显示器用透明导电膜: ITO靶材,AZO靶材,二氧化硅靶材,钛靶材,铬靶材...

显示配线膜电极: 钼靶材,钨靶材,钛靶材,钽靶材,铬靶材,铝靶材,铝钛合金靶材,AlTa合金靶材,铝钕合金靶材,AlNd合金靶材...

显示薄膜电致发光: ZnS掺杂的Mn靶,ZnS掺杂的Tb靶,ZnS掺杂的Eu靶,Y2O3靶,Ta2O5靶,BaTiO3靶...

装饰膜: 钛靶,锆靶,铬靶,TiAl靶,SS靶...

低电阻膜: NiCr靶,NiCrSi合金靶,NiCrAl靶,NiCu合金靶...

超导薄膜: YBCO靶(YBaCuO靶),BiSrCaCuO靶...

工具镀膜: 氮化物靶,碳化物靶,硼化物靶,Cr靶,Ti靶,TiAl合金靶,Zr靶,石墨靶,铝99.99%,铬99.5%,镍/铬99.5%,镍和合金99.5%,钨碳化物C:0.4%,钛及合金(TiAL,TiALY)99.5%,锆99.5%

薄膜太阳能电池:硅溅射靶材,砷化镓(GaAs)99.999%,ITO 99.99%,钛金属99.9%,铝氧化锌(AZO)99.99%,氧化锌(ZnO)99.99%二氧化硅(SiO2)99.99%,氧化钛(TiO2)99.99%,钼99.9%,镍/铬(80:20)99.5%,NiV靶材,铬靶99.5〜99.9%,碲化镉(CdTe)99.999%,硫化镉(CdS)99.99%, 99.999%,铂(Pt)99.99%,GaSe靶材,GaS靶材,CuGa靶材,CuIn靶材,CuInGaSe(CIGS)99.99%,CuInSe(CIS)99.99%,ZnAl合金溅射靶,CIG溅射靶(5N)


溅射靶材料清单:


金属溅射靶材: 铝(Al),锑(Sb),铋(Bi),硼(B),镉(Cd),铈(Ce),铬(Cr),钴(Co),铜(Cu),s(Dy), (Er),Euro(Eu),Ga(Gd),锗(Ge),金(Au),石墨,碳(C),Ha(Hf),Hol(Ho),铱(Ir),铟( In),铁(Fe),镧(La),铅(Pb),L(Lu),锰(Mn),钼(Mo),镁(Mg),钕(Nd),铌(Nb),镍( Ni),钯(Pd),铂(Pt),Pra(Pr),hen(Re),钌(Ru),Sa(Sm),Scan(Sc),硒(Se),硅(Si),银( Ag),钽(Ta),b(Tb),碲(Te),锡(Sn),Th(Tm),钛(Ti),钨(W),钒(V),Y(Yb),钇( Y),锆(Zr),锌(Zn);
合金溅射靶材:AlCu,AlCr,AlMg,AlNd,AlSi,AlSiCu,AlAg,AlV,CaNiCrFe,CaNiCrFeMoMn,CeGd,CeSm,CrSi,CoCr,CoCrMo,CoFe,CoFeB,CoNi,CoNiCr,CoPt,CoNbZr,CoTaZr,CoZr,CrV,Cr CrSi,CrCu,CuCo,CuGa,CuIn,CuNi,CoNiPt,CuZr,DyFe,DyFeCo,FeB,FeC,FeMn,GdFe,GdFeCo,HfFe,IrMn,IrRe,InSn,MoNb,MoSi,NiAl,NiCr,NiCrSi,NdDyFeCo, NiFe,NiMn,NiNbTi,NiTi,NiV,SmCo,AgCu,AgSn,TaAl,TbDyFe,TbFe,TbFeCo,TbGdFeCo,TiAl,TiNi,TiCr,WRe,WTi,WCu,ZrAl,ZrCu,ZrFe,ZrNb,ZrNi,ZrTi, ZrY,ZnAl,ZnMg,其他定制合金靶材;


陶瓷溅射靶材:

硼化物陶瓷溅射靶材: Cr2B,CrB,CrB2,Cr5B3,FeB,HfB2,LaB6,Mo2B,Mo2B5,NbB,NbB2,TaB,TaB2,TiB2,W2B,WB,VB,VB2,ZrB2,其他掺杂的bo陶瓷靶材

碳化物陶瓷溅射靶材: B4C,Cr3C2,HfC,Mo2C,NbC,SiC,TaC,TiC,WC,W2C,VC,ZrC,其他掺杂的碳化物陶瓷靶材

氟化物陶瓷溅射靶材: AlF3,BaF3,CdF2,CaF2,CeF3,DyF3,ErF3,HfF4, KF,LaF3,PbF2,LiF,PrF3,MgF2,NdF3,ReF3,SmF3,NaF,冰晶石,Na3AlF6,SrF2,ThF4,YF3,YbF3,其他掺杂的氟化物陶瓷靶材

氮化物陶瓷溅射靶材: AlN,BN,GaN,Hf NbN,Si3N4,TaN,TiN,VN,ZrN,其他掺杂氮化物陶瓷靶材;

氧化物陶瓷溅射靶材: Al2O3,Sb2O3,ATO,BaTiO3,Bi2O3,CeO2,CuO,Cr2O3,Dy2O3,Er2O3,Eu2O3,Gd2O3,Ga2O3,GeO2,HfO2,Ho2O3,In2O3,ITO,Fe2O3,Fe3Ob,Fe3Ob,Fe3Ob,La3O4, Lu2O3,MgO,MoO3,Nd2O3,Pr6O11,Pr(TiO2)2,Pr2O3,Sm2O3,Sc2O3,SiO2,SiO,SrTiO3,SrZrO3,Ta2O5,Tb4O7,TeO2,ThO2,Tm2O3,Ti2TiO,Sn2O3,TiO2,TiO2, SnO,WO3,V2O5,YAG,Y3Al5O12,Yb2O3,Y2O3,ZnO,ZnO:Al,ZrO2(不稳定),ZrO2-5-15wt%CaO)和其他多元素氧化物靶材;

硒化陶瓷溅射靶材: Bi2Se3,CdSe,CuSe,Ga2Se3,In2Se3,PbSe,MoSe2,NbSe2,TaSe2,WSe2,ZnSe,其他掺杂的棕铝靶材;

硅化物陶瓷溅射靶材: Cr3Si,CrSi2,CoSi2,HfSi2,MoSi2,NbSi2,TaSi2,Ta5Si3,TiSi2,Ti5Si3,WSi2,V3Si,VSi2,ZrSi2,其他掺杂硅化物陶瓷靶材;

硫化物陶瓷溅射靶材: AgS,Ag2S,CuS,Cu2S,Sb2S3,As2S3,CdS,FeS,GaS,GeS,PbS,SnS,In2S3,MoS2,NbS1.75,TaS2,WS2,ZnS,其他掺杂的sulfide陶瓷靶材;

碲化物陶瓷溅射靶: Al2Te3,Bi2Te3,CdTe,CuTe,Ga2Te3,GeTe,PbTe,MoTe2,NbTe2,TaTe2,TmTe,WTe2,ZnTe,其他掺杂的碲化物陶瓷靶材;

定制溅射靶材: AZO,Cr-SiO,CIGS,ITO,IGZO,GaAs,Ga-P,GaSb,In-Sb,InAs,InP,InSn,LSMO,Na3AlF6,YBCO,LCMO,YSZ,GeSbTe等定制溅射靶材;


靶材半导体材料的重要成分
钛靶材应用于什么行业列举实例详细分析