镍铂合金靶材是一种银灰色金属靶材，它的熔点在1400-1650°C之间，密度为18.63克/厘米³，电阻率为29.8μΩ·cm（20°C）。这种合金靶材具有较高的纯度，可用于制备各种高性能薄膜材料，应用于电子、光学、磁性等领域。
镍铂合金靶材特征
镍铂靶材形状：平面靶、异型定制
镍铂靶材纯度：4N
镍铂靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供镍铂合金颗粒、镍铂合金粉末，镍铂合金棒。
镍铂合金靶材制备工艺
采用纯度大于等于99.99%的镍和纯度大于等于99.95%的铂作为原料,所用原料中铂含量为1at.%-20at.%,原料在坩埚中进行真空感应熔炼成镍铂合金锭;
在真空度为0.3-4Pa条件下,采用真空电子束将镍铂合金锭熔炼成高纯镍铂合金锭；
在950-1150℃下对高纯镍铂合金锭进行径向热锻,然后将进行径向热锻后的高纯镍铂合金锭进行退火处理；
在950-1150℃下对退火处理后的高纯镍铂合金锭进行纵向墩粗,然后将进行纵向墩粗后的高纯镍铂合金锭进行退火处理；
在600-800℃下对退火处理后的高纯镍铂合金锭进行热轧,然后在10-40℃下对热轧后的高纯镍铂合金锭进行冷轧,然后在600-700℃下对冷轧后的高纯镍铂合金锭进行再结品退火处理,形成晶粒尺寸小于100nm的镍铂合金靶坯；
对镍铂合金靶坯进行机械加工,形成所需要的镍铂合金靶材。
上图是镍铂合金靶材的金相图
镍铂合金靶材材应用
电子行业：镍铂合金靶材在微电子和光电子领域中，用于薄膜沉积材料，具有高度的导电性和抗氧化性。
半导体制造：在半导体设备中，金属化层需要优异的电学特性和化学稳定性。镍铂合金靶材适用于半导体晶圆上的微电子加工，通过化学气相沉积（CVD）或原子层沉积（ALD）技术使用，用于制造电源管理芯片和高频射频芯片。
光学涂层：镍铂合金靶材因其优异的耐腐蚀性和高反射率，也被用于光学涂层，例如在镜子、镜头或其他光学元件表面镀上一层镍铂合金薄膜，以改善其光学性能。
磁性材料：镍铂合金靶材可以用于制备具有特定磁性的薄膜，比如在硬盘驱动器等数据存储设备中的磁头涂层。
耐腐蚀涂层：由于镍铂合金的耐腐蚀性能强，其靶材也用于在金属表面制备保护层，防止金属受到腐蚀，延长其使用寿命。
镍铂合金其他应用
工业领域：镍铂合金通常具有较高的熔点、良好的耐腐蚀性和机械强度，可用于制造高温热电偶、催化剂、电极以及高温装置的零部件等。
电子领域：镍铂合金具有良好的导电性和热稳定性，在电子器件和传感器等领域具有潜在的应用价值，例如用于制造集成电路中的互连线、阻挡层、通孔、接触层和金属栅等薄膜。
能源领域：在燃料电池和电解槽中，镍铂合金可以作为催化剂，帮助转化化学能为电能或其他形式的能量。
生物医学领域：镍铂合金在某些情况下显示出良好的生物相容性，因此在生物医学领域也有一定的应用，例如用于药物递送、生物成像和疾病研究等方面。
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