用于屏蔽溅射镀膜层的溅射靶材有哪些？

真空溅射EMI具有导电率高、电磁屏蔽效率高的特点。可广泛应用于通讯产品（手机）、电脑（笔记本电脑）、便携式电子产品、消费类电子产品、网络硬件（服务器）、医疗器械、家用电子产品、航空航天、国防电子设备的EMI屏蔽。同时适用于各种塑料制品（PC、PC+ABS、ABS.）的金属屏蔽。

屏蔽（EMI）溅射镀膜具有以下特点：
1、价格低廉；
2、金属膜厚度仅为0.5-2μm，不影响组装；
3、环保工艺，绝对环保无污染；
4、溅射材料无限制。

用于屏蔽的镀膜涂层的溅射靶材有哪些？

有铜、铬、银、金、不锈钢、铝、二氧化硅等。

银溅射靶材
银是一种柔软、有光泽的元素，属于元素周期表中金属的过渡族。它的熔点为 962 ℃，密度为 10.5 g/cc，在 1,105 ℃ 时的蒸气压为 10-4Torr。自古以来，银就被用于无数产品中。它具有延展性、延展性，并且是所有金属中导电性强的。它被认为是一种贵金属，可以在珠宝、焊料、油漆和镜子中找到。它在真空下蒸发以生产半导体、传感器、燃料电池和光学涂层。

铜溅射靶材
铜是一种延展性金属，具有非常高的导热性、导电性、延展性、耐腐蚀性。新暴露的纯铜表面呈红橙色。高纯铜在电子工业中用作各种线材、电子封装的键合线、优质音频线和集成电路、液晶显示器溅射靶材、离子镀。它也是原子能、火箭、导弹、航空、航天导航和冶金工业中不可缺少的宝贵材料。

这些溅射靶材可用于任何室温下的固体导电金属、有机材料、绝缘材料，而且成膜致密均匀，膜厚易于控制。附着力强，可与多种不同溅射材料同时使用，制备多层薄膜。

[免责声明]本站文章部分为原创，其余仅做网络公开资料的翻译、归纳和整理，不属于商业用途，仅用于读者信息分享，供读者学习参考，不对文章内容的真实性、合法性、准确性、有效性、完整性等提供保证及负责，且不对读者提供任何投资及应用建议。本站尊重知识产权，因整理资料所需，文中引用部分有来源于第三方公开的数据、图片等内容的，如有版权的则其所属的知识产权归属原作者，本站文章凡有引用的内容均在文末标注了原文出处或者原作者，若版权所有者认为文章涉嫌侵权或其他问题，请联系我方（联系电话：0731-86393472）及时处理。本站提供技术方面的文章不用于商业仅供大家学习参考，力求数据严谨准确，但因受时间及人力限制，文章内容难免有所纰漏，如有重大失误失实，敬请不吝赐教批评指正。本站原创文章版权归本网站所有，转载请联系本站，本站拥有对此声明的解释权。