为什么选择圆柱平面溅射靶材

常见的靶材形状是平面靶材和旋转靶材。从名字我们就可以想象它们的样子，如下图。

这两种形状的靶材各有优缺点，详情请参考平面靶和旋转靶的优缺点。今天我们介绍的重点主要是圆柱平面溅射靶材，它是一种新型的溅射靶材，应用市场非常广阔。

将矩形平面磁控靶材的结构原理应用于圆柱形磁控溅射靶材，从而将磁控溅射靶设计为圆柱形平面磁控溅射靶。它综合了平面矩形靶材和同轴圆柱靶材的优点，涂层均匀性好，靶材利用率高。圆柱形平面溅射靶材的形状如上图所示。

与其他形式的磁控溅射靶材相比，圆柱形平面磁控溅射靶材不仅保持了矩形平面靶镀层的均匀性，而且通过以下两种方式大限度地提高了靶材的利用率：
(1)当靶材表面环形坑达到一定深度时，靶芯（磁铁部分）可相对靶管转动，使靶管上未使用的区域得到利用；
(2)圆柱、平面磁控溅射靶材的靶芯设计为使靶芯旋转（溅射时靶材在旋转）时，靶材表面可逐层均匀溅射，不会有凹坑。这时候靶材会得到有效的利用，靶材的利用率可以达到50%到60%。当目标是贵金属材料时，这无疑具有重要意义。

圆柱平面溅射靶材无疑优于传统平面靶材和旋转靶材。未来很可能会不断开发出更具优势的靶材形状，靶材市场潜力无穷。鑫康公司是金属、合金、氧化物、陶瓷材料等各种溅射靶材的全球供应商。我们承诺为您提供满意的服务。如果有相关靶材的问题可以关注我们的公众号：xinkang11111，或者向我们咨询。

本文资料部分来源于国外网络（@Stanford Advanced Materials），本站对此不持任何立场和观点，如需转载请自行联系出处。

[免责声明]本站文章部分为原创，其余仅做网络公开资料的翻译、归纳和整理，不属于商业用途，仅用于读者信息分享，供读者学习参考，不对文章内容的真实性、合法性、准确性、有效性、完整性等提供保证及负责，且不对读者提供任何投资及应用建议。本站尊重知识产权，因整理资料所需，文中引用部分有来源于第三方公开的数据、图片等内容的，如有版权的则其所属的知识产权归属原作者，本站文章凡有引用的内容均在文末标注了原文出处或者原作者，若版权所有者认为文章涉嫌侵权或其他问题，请联系我方（联系电话：0731-86393472）及时处理。本站提供技术方面的文章不用于商业仅供大家学习参考，力求数据严谨准确，但因受时间及人力限制，文章内容难免有所纰漏，如有重大失误失实，敬请不吝赐教批评指正。本站原创文章版权归本网站所有，转载请联系本站，本站拥有对此声明的终解释权。