关于铝钕合金靶材性能，制备方法及其应用介绍

铝钕合金靶材是一种由铝与稀土元素钕为主所组成的高纯合金溅射靶材，广泛用于磁控溅射、电子束蒸发等物理/化学气相沉积（PVD/CVD）工艺，为TFT-LCD、OLED、触摸屏、半导体、光伏太阳能及光学镀膜等领域提供高性能薄膜材料。

铝钕合金靶材性能特点

磁性能优异：钕是一种稀土元素，它的加入赋予了铝钕合金靶材独特的磁性能，使其可用于制备具有高磁强度和稳定性的磁性薄膜，适用于磁性记录媒体、磁性传感器等领域。
机械性能良好：铝钕合金靶材具有一定的强度和硬度，能够满足一些对机械性能有要求的应用场景，如在一些需要耐磨、耐冲击的涂层制备中。
耐腐蚀性能较好：该合金靶材具有较好的耐腐蚀性能，能够在一些较为恶劣的环境中使用，保证靶材的使用寿命和性能稳定性。

铝钕合金靶材制备方法

原料准备：使用纯度大于 99.999% 的高纯铝和含2-3wt% 的高纯铝钕中间合金为原材料，投入真空熔炼炉。
熔炼：在真空度为 5-6×10?3Pa 的真空熔炼炉中，先在 1100℃温度下熔炼，充分搅拌 15-30 分钟，使合金溶液中元素分布均匀，确保组织充分合金化，避免中间化合物生成；然后降温至 700℃-800℃保温搅拌 0.5 小时，以避免 Nd 偏析和局部共晶体析出。
浇铸：将熔炼好的合金液真空浇铸到高纯氧化铝内衬的真空水冷模中快速冷却，通过控制冷却水温，得到晶粒组织较小的铸锭，降温后去真空开模，取出铸锭。
均匀化处理：切除铸锭的头尾，铣掉表皮，去除杂质和气孔，得到特定尺寸的浇铸方胚，再将胚料在 500℃-600℃下保温 12-24 小时，进行均匀化处理，使组织晶内金属成分均匀，减少偏析。
轧制：将方胚加热至 250℃-350℃后进行轧制，轧制总变形率为 75%-90%，前 5 道次的总变形率控制在 15%-20%，道次变形率不超过 10%，后续道次变形量 20%-50%。
退火：将轧制后的合金板胚进行退火处理，退火温度 150℃-300℃，时间 1-3 小时，消除轧制过程中产生的内应力，改善合金的组织结构和性能。
机加工与绑定：将退火后的板胚水切割去边，机加工至合适尺寸，后绑定至铜背板，得到终的铝钕合金靶材。