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钼靶材制备方法及应用介绍

钼溅射靶材


钼靶材与其原材料具有相同的属性。钼是一种银灰色金属,它的熔点为2623°C,密度为10.2g/cm3。 真空环境或惰性气体保护环境,纯钼较高耐高温1200度,钼合金较高耐高温1700度。钼的弱氧化从 300 °C (572 °F) 开始,它是商用金属中热膨胀系数低的金属之一。鑫康生产的钼靶材是具有高密度和小平均晶粒尺寸的高纯度溅射靶材,用于PVD,CVD,APS和VPS镀膜工艺。

钼靶材特征
钼靶材形状:平面靶 旋转靶 异型定制
钼靶材纯度:3N5
钼靶材尺寸:按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供钼丝、钼片、钼棒、钼粒、钼块、钼粉等

钼旋转靶材


钼靶材制备工艺
1、钼粉纯度大于等于99.95%。采用热压烧结工艺对钼粉末进行致密化处理,将钼粉末置于模具中;将模具放入热压烧结炉中后,将热压烧结炉抽真空;调节热压烧结炉温度至1200~1500℃,压强大于20MPa,并保温保压2~5h;形成第一钼靶材坯料;
2、对第一钼靶材坯料进行热轧处理,将第一钼靶材坯料加热至1200~1500℃,之后进行轧制处理,形成第二钼靶材坯料;
3、热轧处理后,对第二钼靶材坯料进行退火处理,退火处理的方法为调节温度为800~1200℃,保温加热第二钼靶材坯料2~5h,形成钼靶材。

该方法解决了钼靶材杂质含量高、织构分布不均匀的问题,通过该方法制得的钼靶材纯度和密度更高、靶材织构分布更均匀,能形成特定的结晶取向、钼靶材的溅射性能更好。下图是钼溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片,平均粒径<100um。

钼靶材金相


钼靶材应用
钼溅射靶材可以在衬底上形成薄膜,广泛应用于电子元器件和电子产品,集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件;也可应用于玻璃镀膜域;还可以应用于耐磨材料、高温腐蚀、装饰用品等行业。

钼的其它应用
钼材料主要用在真空高温行业,电子行业,蓝宝石热场及航空航天制造行业等,钼材料经过变形量达到60%以上的轧制加工后,钼的密度基本上接近于理论密度,因此其具有高强度,内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能,被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏,盖板真空炉内的反射屏,发热带,连接件,等离子镀膜用的溅射靶材,耐高温舟皿等制品。

钼靶材合金类型

除钼靶材外,我们还可以提供钼钛合金、钼铼合金、钼铌合金、钼铜合金、钼镧合金、钼钽合金等靶材。


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