铜靶材是真空镀膜行业中优良的溅射材料。它具有与金属铜相同的性质，铜是红橙色金属，熔点1083°C，密度8.96g/cm3，沸点 2567°C。由于高纯铜材料具有许多优良性能，铜靶已广泛应用于电子、通信、超导、航空航天等前沿领域。
铜靶材特征
铜靶材形状：平面靶 旋转靶 异型定制
铜靶材纯度：99.95%，99.99%，99.9999%和99.9999%
铜靶材尺寸：按图纸加工或其他者定制
我们还可以提供铜丝、铜片、铜棒、铜粒、铜块、铜粉等
铜靶材的制作方法
以普通电解铜为原材料，通过电解提纯、真空感应熔炼和真空电子束熔炼制得高纯度铜锭作为原始锭坯，再对铜锭依次反复进行热锻、热处理、冷锻、热处理，得到初处理铜毛坯；对铜毛坯再依次进行热轧、热处理、冷轧、热处理，得到铜靶材毛坯，再经机械加工和研磨抛光得到铜靶材成品，以上方法制备的铜靶材含氧量低、致密度高、晶粒细小均匀，成膜质量高，制备的铜靶材晶粒尺寸≤50μm，氧含量≤10ppm。
铜靶材应用
适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜适用于直流溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。
铜溅射靶材合金类型
除铜靶材外，我们还可以提供铜铬合金，铜铝合金，铜镍合金，铜钛合金，铝硅铜合金，铜铬锆合金，铜镍锰合金，铜镍钛合金等溅射靶材。
关于铜靶材制备工艺及应用介绍，希望以上概述对您有所了解，了解材料不迷路，请收藏我们的网站鑫康新材料靶材生产厂家https://www.xk-sputteringtarget.cn/。
[免责声明]本站文章部分为原创，其余仅做网络公开资料的翻译、归纳和整理，不属于商业用途，仅用于读者信息分享，供读者学习参考，不对文章内容的真实性、合法性、准确性、有效性、完整性等提供保证及负责，且不对读者提供任何投资及应用建议。本站尊重知识产权，因整理资料所需，文中引用部分有来源于第三方公开的数据、图片等内容的，如有版权的则其所属的知识产权归属原作者，本站文章凡有引用的内容均在文末标注了原文出处或者原作者，若版权所有者认为文章涉嫌侵权或其他问题，请联系我方（联系电话：0731-86393472）及时处理。本站提供技术方面的文章不用于商业仅供大家学习参考，力求数据严谨准确，但因受时间及人力限制，文章内容难免有所纰漏，如有重大失误失实，敬请不吝赐教批评指正。本站原创文章版权归本网站所有，转载请联系本站，本站拥有对此声明的终解释权。
厂房地址：湖南省浏阳市高新技术开发区永泰路创新创业园A4-1栋
邮箱地址：erin@xk-sputteringtarget.com
全国咨询热线：
0731-86393472
Copyright © 2014 www.xk-sputteringtarget.com 长沙鑫康新材料有限公司版权所有 备案号： 湘ICP备17005295号-2
