高纯钴靶材制备方法
高纯钴靶材的制备方法步骤:将纯度为99.999%以上的高纯钴锭进行径向锻造和退火处理;将处理后高纯钴锭截成短节,对短节进行纵向墩粗和退火处理;将处理后的高纯钴锻件进行多次压延和退火处理得到钴钯坯;将钴钯坯进行机械加工,然后通过低熔点焊料与铜背板粘接在一起,即得高纯钴靶材.
高纯钴冶金工艺流程
制备高纯钴的冶金工艺过程主要包括萃取法、膜分离法、离子交换法、电解法、区域熔炼法等,这些方法在除杂方面发挥着不同的作用。
高纯钴靶材应用
应 用:金属钴主要用于制取合金。它是制造耐热合金、硬质合金、防腐合金、磁性合金和各种钴盐的重要原料，广泛用于航空、航天、电器、机械制造、化学和陶瓷工业。
高纯钴靶材用途
用 途:高纯金属钴是制备磁记录介质、磁记录磁头、光电器件和磁传感器和集成电路等元器件的重要材料。还可以作为半导体薄膜材料使用。
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